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光催化廢氣處理設備的處理過程

2021年08月26日 10:50:10人氣:353來源:諸城市吉豐機械科技有限公司

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關 鍵 詞光氧催化設備,廢氣凈化設備,除臭除味設備,活性炭吸附塔,廢氣吸附設備
【資料簡介】

光催化法的主要原理是:污染物被高能光波照射,直接參與光解反應;或利用光波激發半導體催化劑,使其具有氧化還原反應能力,達到氧化降解污染物的目的;或通過植物吸收高能光子,產生生物和化學效應,并進行有機降解。


光催化廢氣處理優點如下


光催化法的特點是設備簡單,可在常溫常壓下運行,有機降解快,*,無二次污染。以低壓汞燈為光源,常溫常壓運行20分鐘,對100mg/ L以下幾種染料廢水的降解率為95-100%。對人參中含有0.817mg/kg六氯苯和0.911mg/kg五氯硝基苯的農藥殘留進行4h降解,降解率分別為93%和97%。

該光催化方法可以利用太陽光作為能量激活光催化劑,驅動氧化-還原反應,并且在反應過程中不消耗光催化劑。


光催化的應用包括工業有毒溶劑、化學殺蟲劑、木材防腐劑、染料和燃料油,也用于處理無機污染物。


光催化廢氣處理過程如下


光催化氧化利用光化學反應來降解污染物,包括無催化劑或有催化劑的光化學氧化過程。前者以氧和過氧化氫為氧化劑,在紫外光下氧化分解污染物。后者又稱光催化氧化,一般可分為均相催化和多相催化。均勻的光催化降解是一個比較常見的是鐵或鐵和過氧化氫作為媒介,通過照片-芬頓反應,對污染物降解HO,多相光催化降解是一種更常見的在系統中添加一定量的光敏半導體材料的污染,加上一定量的輻射的同時,的照射下使光敏半導體光激發產生的電子-空穴對,溶解氧,水分子吸附在半導體和電子,如空化,產生強氧化性自由基,如HO,污染物可以*或幾乎*礦化羥基,替換和電子轉移。

光氧催化設備2.jpg


諸城市吉豐機械科技有限公司作者

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