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Q150R S,真空鍍膜儀價格

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更新時間:2022-08-03 14:00:09瀏覽次數:645次

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Q150R S,真空鍍膜儀價格
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Q150R S,真空鍍膜儀價格

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Q150R S,真空鍍膜儀價格  參數:

金 – 常規SEM應用時使用zui普遍的靶材;濺射速度快且導電效果。 

銀 – 高導電性且具有高的二次電子發射率。濺射上去的銀易于去除,可使樣品成像后還原到其原來狀態。 

鉑 – 在機械泵抽真空的濺射鍍膜系統中它的顆粒尺寸zui小,且具有優良的二次電子發射能力。 

鈀 – 用于x射線能譜分析非常理想,因其譜線分布沖突相對較低。 

金/鈀合金(80:20%) - 通過限制沉積期間金顆粒的團聚,鈀可提高zui終分辨率。 

碳絲蒸鍍 – 碳絲蒸鍍過程的閃蒸特性及快速更換碳絲的能力,使其處理樣品速度非常快。 

碳棒蒸發 – 用于需要減慢速度但可控性更好的蒸發過程,可制備更趨向無定形的碳膜

  概述:

功能強大、可重復鍍膜及高可靠性:可預編程的鍍膜參數及方案能確保*且可重復的結果。需要沉積厚膜時,本系統提供長達60分鐘且無需破真空的濺射時間。設計*的碳蒸鍍插入頭操作簡單,具有對蒸發電流參數的*控制,確保了SEM應用中*的和可重復的碳沉積。可選的膜厚監控附件用于可重復的膜厚控制。 

適配性強且用途廣:濺射、碳蒸鍍、輝光放電插入頭及多種可選件,使Q150R對于多用戶實驗室應用非常理想。可濺射一系列不氧化金屬,如金、銀、鉑和鈀。碳絲蒸鍍插入頭處理樣品速度非常快。也可選用碳棒蒸發。還可應用于金屬薄膜研究及電極的應用 

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