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PLR-HGPR高溫高壓光催化反應系統

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更新時間:2021-07-16 13:26:28瀏覽次數:251次

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產品簡介

關鍵特征●實現較低氣體流速的高溫高壓下的微分式光催化反應;●可用于氣固相光催化、液固相光催化反應的微分式或積分式光化學反應;●氣體流速可三路獨立控制,使用超厚石英光窗,可用于全光譜范圍內的光化學反應;●具有二級穩流閥及二級穩壓閥控制,三路進氣可分別控制

詳細介紹

關鍵特征
● 實現較低氣體流速的高溫高壓下的微分式光催化反應;
● 可用于氣固相光催化、液固相光催化反應的微分式或積分式光化學反應;
● 氣體流速可三路獨立控制,使用超厚石英光窗,可用于全光譜范圍內的光化學反應;
● 具有二級穩流閥及二級穩壓閥控制,三路進氣可分別控制。
 
應用領域 ▲特別適用 ●較為適用 ○可以使用
▲ 光降解液體污染物(如染料、苯及苯系物等) ▲ 光催化CO2還原
▲ 其他高溫高壓(光)化學反應 ▲ PEC光電化學
● 光催化分解水制氫/氧 ● 光催化全分解水
● 光降解氣體污染物(如VOCs 、甲醛、氮氧化物、硫氧化物等)
○ 光催化量子效率測量 ○光合成
 


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