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ITO實驗型鍍膜機,ITO實驗型鍍膜設(shè)備

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參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號MSC-1250

品       牌

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所  在  地上海市

聯(lián)系方式:林先生查看聯(lián)系方式

更新時間:2018-05-16 16:51:04瀏覽次數(shù):596次

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經(jīng)營模式:經(jīng)銷商

商鋪產(chǎn)品:62條

所在地區(qū):上海上海市

聯(lián)系人:林先生 (總經(jīng)理)

產(chǎn)品簡介

ITO實驗型鍍膜機,ITO實驗型鍍膜設(shè)備

詳細(xì)介紹

ITO實驗型鍍膜機,ITO實驗型鍍膜設(shè)備

 MSC系列真空磁控濺射鍍膜機廣泛應(yīng)用于家電電器、鐘表、燈具、工藝美術(shù)品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。所謂“濺射”就是用荷能粒子(通常用氣體正離子)轟擊物體,從而引起物體表面原子從母體中逸出的現(xiàn)象,早在1842年Grove在實驗室中就發(fā)現(xiàn)了這種現(xiàn)象。磁控濺射靶采用靜止電磁場,磁場為曲線形,均勻電場和對數(shù)電場則分別用于平面靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下,加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞,若電子具有足夠的能量(約為30ev)時,則電離出Ar+并產(chǎn)生電子,電子飛向基片,Ar+在電場作用下,加速飛向陰極(濺射靶)并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。

    本公司的磁控濺射鍍設(shè)備有以下幾大特點:1) 膜厚可控性和重復(fù)性好,能夠可靠的鍍制欲定厚度的薄膜,并且,濺射鍍膜可以在較大的表面上獲得厚度均勻的膜層;2)薄膜與基片的附著力強,并且部分高能量的濺射原子產(chǎn)生不同程度的注入現(xiàn)象,在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴散層;3)可以制備特殊材料的薄膜,可以制膜層可以使用不同的材料同時濺射制備混合膜、化合膜,還可濺射成TiN仿金膜;4)膜層純度高,濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。

 

關(guān)鍵詞:鍍膜機 加熱器

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