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上海將來實驗設備有限公司
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上海將來實驗設備有限公司供應CVD管式氣氛爐適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容器(MLCC)氣氛燒結等實驗。
如本產品參數不符合您要求，您可，由我們銷售工程師為您*符合您要求的產品。
JK08-13-2ACVD高溫管式氣氛爐 產品特點：
JK08-13-2ACVD高溫管式氣氛爐 技術參數：
| 型號 | JK08-13-2A |
| 設計溫度 | 1000-1300℃ |
| 控溫精度 | ±1℃ |
| 極限真空度 | -0.01mpa（機械泵） |
| 溫區 | 雙溫區 |
| 管徑長度 | Ф100＊1200 |
| 輸入功率 | 9KW |
| 電源電壓 | AC380V |
| 加熱原件 | 硅碳棒、鎳鉻絲 |
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