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電子半導(dǎo)體用超純水設(shè)備

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

超凈化和超純水乃至超超純水的概念是隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展出來(lái)的。現(xiàn)有的純水的概念基本上是在水溶液中的電解質(zhì)為對(duì)象

詳細(xì)介紹

　　超凈化和超純水乃至超超純水的概念是隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展出來(lái)的。現(xiàn)有的純水的概念基本上是在水溶液中的電解質(zhì)為對(duì)象。因此,電傳導(dǎo)性檢測(cè)中心。,除此以外的水中不溶解分散的有機(jī)物,生菌,微粒其他對(duì)象。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中被要求超純的水時(shí),其最終目標(biāo)是設(shè)想的100 %理論純水。但是,這種純水只是來(lái)自純理論的東西,實(shí)際上是不可能實(shí)現(xiàn)，這是理論制造純水本身就有困難,即使能制造出，生產(chǎn)設(shè)備的附著物和材料的溶出等產(chǎn)生的污染,使純水不能保持純度，因此,現(xiàn)實(shí)中能夠得到純水的水平是的純水理論無(wú)限接近超純水乃至超超純水。主要使用并在半導(dǎo)體、液晶等電子零件的清洗水",功能性化學(xué)品(半導(dǎo)體制造用藥品稀釋水等)也被使用。

　　半導(dǎo)體超純水設(shè)備是應(yīng)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)零件清洗的超純水設(shè)備，需要符合特定的用水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)，下面具體介紹下半導(dǎo)體超純水設(shè)備。

　　半導(dǎo)體超純水設(shè)備水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：

　　半導(dǎo)體超純水設(shè)備出水水質(zhì)要符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國(guó)電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

　　半導(dǎo)體超純水設(shè)備制備工藝：

　　1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝，優(yōu)點(diǎn)：水質(zhì)好，技術(shù)成熟，缺點(diǎn)：需要酸堿再生，需要廢水處理設(shè)備)

　　2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→UF→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)(膜工藝,優(yōu)點(diǎn)：設(shè)備操作簡(jiǎn)單、維護(hù)方便，不需要再生用藥劑，缺點(diǎn)：對(duì)于大水量系統(tǒng)，成本、空間沒(méi)有優(yōu)勢(shì))

　　3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥17MΩ.CM)(案例類型)

　　4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥15MΩ.CM)(案例類型)

　　5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn) (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)

　　半導(dǎo)體超純水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域：

　　電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗。

　　電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水。

　　黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水。

　　生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液。

　　晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片。

　　集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片。

　　半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水。

　　半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗。