應用方向：科研與教學

產品優勢： 高性能薄膜制備

產品配置：

★樣片數量及尺寸：1片Ф6英寸

★沉積材料：包括并不限于硅基（Si）薄膜、碳基（C）薄膜、硅鍺合金（SiGe）、鎢硅合金（WSi2）、W、SiC。

★沉積腔體：高真空系統

★沉積不均勻性：±3%-±6%

★沉積速率：20-600nm/min（視具體材料與工藝）

★工作臺：可升降，高度可調

★加熱：常規加熱，可選高溫加熱

★電源配置：射頻；直流偏壓

★氣路數量與種類：標配4路氣路 或 用戶選配

★光學性能監測：可選配橢偏儀在線監測系統

★漸變折射率薄膜制備：可選配快速流量變化與控制系統

★操作模式：全自動+半自動控制

類似產品：帶預真空室（PECVD-8100）