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北京中科復華科技有限公司
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更新時間:2024-04-09 10:03:17瀏覽次數(shù):751次
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磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓,在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電,使氬氣發(fā)生電離。
應用方向:科研與教學
產(chǎn)品優(yōu)勢:效率高+多功能;垂直濺射+傾斜共濺射
產(chǎn)品配置:
★樣片數(shù)量及尺寸:6片Ф2英寸(垂直濺射)+ 1片Ф4英寸(共濺射)
★濺射材料:金屬;非金屬;化合物等薄膜材料。
★濺射腔體:高真空系統(tǒng)。
★濺射不均勻性:≤±3%-±5%
★磁控靶:2-4支;可調(diào)角度;可調(diào)距離
★濺射方向:樣品下置(自上而下濺射)或 樣品上置(自下而上濺射)
★加熱:常規(guī)加熱,可選高溫加熱
★電源配置:射頻;直流;直流脈沖;直流偏壓
★清洗功能:可選配考夫曼離子源
★快速反應濺射功能:可選配Speedflo
★膜厚監(jiān)控功能:可選配晶控膜厚在線監(jiān)測與終點控制
★操作模式:全自動+半自動控制
類似產(chǎn)品:MSP-300C;MSP-400B
選型參考:樣品在下(MSP-300B);樣品在上(MSP-300BT);配置考夫曼離子源(MSP-300BI/MSP-300BTI)
應用方向:棒狀樣品批量生產(chǎn)
產(chǎn)品優(yōu)勢:棒狀樣品側(cè)壁鍍膜,立式設(shè)備
產(chǎn)品配置:
★樣片數(shù)量及尺寸:30-300根;Ф1mm~Ф30mm,L30mm~L200mm(依據(jù)靶尺寸和樣品尺寸定制)
★濺射材料:金屬;非金屬;化合物等薄膜材料。
★濺射腔體:高真空系統(tǒng)。
★濺射不均勻性:≤±5%-±8%
★磁控靶數(shù)量:2-4支矩形磁控靶
★磁控靶安裝形式:立式安裝
★樣品夾具:公轉(zhuǎn)+自轉(zhuǎn)
★加熱:常規(guī)加熱
★電源配置:射頻;直流
★清洗功能:可選配離子源清洗、射頻清洗、反濺清洗模式
★快速反應濺射功能:可選配Speedflo
★膜厚監(jiān)控功能:可選配晶控膜厚在線監(jiān)測與終點控制
★操作模式:全自動+半自動控制
類似產(chǎn)品:片狀樣品批量鍍膜(MSP-5100C)
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