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北京中科復華科技有限公司
產地 | 進口 |
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截止到2008年1月,ABM公司在世界范圍售出了500多臺光刻機,50多臺單獨曝光系統。客戶包括美國NSA和INTEL、哈佛大學、LG、菲利普、惠普、3M等,ABM在中國各地也擁有不同領域的客戶,包括眾多的工廠、大學和研究所等。
主要配置:
6“,8"光源系統
可支持2“,3",4“,6",8“(圓/方片)及碎片光刻
手動系統,半自動系統
支持電源350-2000 Watt
支持深紫外近紫外波長(可選項)
支持背后對準及MEMS工藝要求
CCD或顯微鏡對準系統
主要性能指標:
光強均勻性Beam Uniformity::
--<±1% over 2" 區域
--<±2% over 4" 區域
--<±3% over 6" 區域
接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV):0.5 um
接觸式樣曝光特征尺寸CD(深紫外DUV):0.35 um
支持接近式曝光,特征尺寸CD:
--0.8um 硬接觸
--1um 20um 間距時
--2um 50um 間距時
正面對準精度 ± 0.5um
背面對準精度±1um--±2um(Depends on user)
支持正膠、負膠及Su8膠等的厚膠光刻,特征尺寸:100um-300um
支持LED優異電流控制技術PSS工藝光刻
支持真空、接近式、接觸式曝光
支持恒定光強或恒定功率模式
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