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北京中科復華科技有限公司
產地 | 國產 |
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光刻機可廣泛用于MEMS和光電子,例如LED生產。它經過特殊設計,方便處理各種非標準基片
1. 技術參數
l UV光源:進口LED模塊
l 曝光中心波長:365nm
l 光源平行性:2o
l ★曝光分辨率:0.8um-1um
l 曝光能量密度:>35mW/cm2可調
l 照度不均勻性:≤2.5%(∮150mm范圍)
l ★曝光面積:160mm*160mm
l 光源壽命:2萬小時
l 曝光設定:定時
l 曝光頭工作模式:曝光位對準位自動切換(前后移動)
l 套準精度:±0.8-1 um
l 可執行曝光模式:真空接觸、硬接觸、壓力接觸、接近式,
l 間隙設定方式:數字設定曝光間隙,自動分離和消除間隙
l 樣片、掩模版相對移動范圍:X: ±5mm, Y: ±5mm, θ=±6o
l 掩模版找平方式:球氣浮自動找平
l 可支持掩模版尺寸: 3″×3″、4″×4″、5″×5″、7″×7″ 各一件
l 標配承片臺 : 2英寸、3英寸、4英寸、6英寸
l 標準配件可兼容樣片厚度:0.1-6mm,其他尺寸可定制
l 可設計工作厚度:50mm
l ★雙目雙視場對準顯微鏡或者光學鏡頭+CCD+顯示器:可通過目鏡目視對準,也可通過CCD+顯示器對準,光學合像,光學倍數400倍,光學+電子放大800倍,物鏡三對:4倍、10倍、20倍,目鏡三對:10倍、16倍、20倍
l 雙物鏡可調距離范圍:30mm-120mm
l ★顯微掃描范圍:Y:±40mm(電動,數字設定)
設備尺寸:≤700mm
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