pharos310曝光是利用電子束在涂有感光膠的晶片上直接描畫或投影復印圖形的技術，它的特點是分辨率高、圖形產生與修改容易、制作周期短。其中掃描曝光系統是電子束在工件面上掃描直接產生圖形，分辨率高，生產率低。投影曝光系統實為電子束圖形復印系統，它將掩模圖形產生的電子像按原尺寸或縮小后復印到工件上，因此不僅保持了高分辨率，而且提高了生產率。

詳細介紹

加速電壓：30Ke可選50Ke

電子束束流：10PA-200nA

單場尺寸：500μmX500μm

樣品臺：4英寸

樣品臺：采用激光干涉定位

樣品臺移動范圍：100mm

最細線條:30nm

拼接精度：50nm

套刻精度：50nm

中國的曝光系統行業市場目前正處于快速發展的階段，技術不斷進步，產品創新不斷增加。近年來，曝光系統的應用領域也發生了很大變化，在工業制造、半導體制造、印刷包裝等領域得到了廣泛應用。

隨著技術的進步，電子束曝光系統行業市場的競爭格局也開始發生變化。中國電子束曝光系統行業市場的競爭格局主要集中于幾個方面。企業間的競爭日趨激烈，各大廠商均在加強技術研發、品牌宣傳等方面進行競爭。在產品質量方面，各大廠商也競相投入，以提升產品的抗腐蝕性、精度、可靠性等性能。再次，在價格方面，各大廠商也在不斷努力，以提升電子束曝光系統的性價比，吸引更多的消費者。