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北京中科復華科技有限公司
產地 | 國產 |
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圖形發生器+SEM(FIB)=簡易電子束曝光系統(EBL) 保留電鏡原有功能。
一種圖形發生器,用于電子束、離子
束等帶電粒子的曝光機,屬于曝光機的圖形
發生器硬件。本實用新型提供一種運算速度
快、接口簡單、功耗低、功能多樣的曝光機
用的圖形發生器,它以高速數字信號處理器
為核心,通過通用串行總線接口 和上位機實現通訊,該圖形發生器不僅可以滿足以三角形,矩形和梯形為基本曝光單元圖形的曝光格式,而且 增加了圓及圓環為具本曝光單元圖形,解決了集成光柵器件加工在速度度和精度上存在的缺陷。本實用新型由接口電路、雙端口存儲器電路、數學信號處理器電路、數模轉換電路、曝光標記檢測控制電路、標記檢測電路、最終曝光數據寄存器單元和束閘控制電路相互連接構。
曝光精度:100納米
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