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小型直流磁控濺射儀

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更新時間：2024-04-26 15:12:06瀏覽次數：57次

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產品簡介

小型直流磁控濺射儀，觸摸屏控制，時間調節電流控制功率，還可調節鍍膜時間，有工藝儲存功能方便下次使用和工藝一致

詳細介紹

小型直流磁控濺射儀，

輕便、濺射面積大
靶材可按用戶要求加工制作

小型離子濺射儀信息由南京舜儀實驗設備有限公司為您提供，如您想了解更多關于小型離子濺射儀報價、型號、參數等信息，歡迎來電或留言咨詢

離子濺射儀為一種有著緊湊結構的桌上型鍍膜系統，對于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時，交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對試樣表面進行清潔，之后試樣復原，再進行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料，有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料，氧氣為離子濺射儀常用的反應氣體

。

小型直流磁控濺射儀技術參數；

控制方式	7寸人機界面手動自動模式切換控制
濺射電源	直流濺射電源
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1000W
輸出電壓電流	電壓≤1000V 電流≤1A
真空	機械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤5*10^-3Pa
濺射真空	≤30Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
樣品臺	可旋轉φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺轉速	8轉/分鐘
樣品濺射源調節距離	40-105mm
真空測量	皮拉尼真空計（已安裝測量范圍10E5Pa 1E-1Pa）
預留真空接口	KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口