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射頻真空等離子清洗機

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更新時間:2024-04-26 15:01:42瀏覽次數:107次

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產品簡介

射頻真空等離子清洗機,不同氣體的等離子體具有不同的化學性能,如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,能氧化光刻膠反應生成氣體,從而達到清洗的效果。

詳細介紹

射頻真空等離子清洗機

等離子體清洗的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的"活化作用"達到去除物體表面污漬的目的。等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發為等離子態;氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。等離子體清洗技術的特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料,可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。



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射頻真空等離子清洗機

供電電源

AC220V(AC110V可選)

工作電流

整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵)

射頻電源功率

150W

射頻頻率

13.56MHz

頻率偏移量

<0.2MHz

特性阻抗

50歐姆,手動匹配

耦合方式

電容耦合

真空度

≤50Pa

腔體材質

高純石英

腔體容積

2L(內徑110MMX深度220MM)

觀察窗內徑

Φ50

氣體流量

0—50ml/min(其他量程可選)

過程控制

過程手動控制

清洗時間

手動開關

開蓋方式

鉸鏈側開式法蘭

外形尺寸

450x450x360mm

重量

23Kg

真空室溫度

小于65°C

冷卻方式

強制風冷

標配

KF16真空管1米,kf16卡箍2個,不銹鋼網匣1個,電源線一根,說明書一本。









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