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鄭州科探儀器設備有限公司
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簡要描述：高純度金顆粒蒸鍍儀KT-Z1650CVD是我公司專為科研院所及實驗室用戶群體設計開發的一款小型高真空蒸發鍍膜系統。蒸發源可兼容金屬、有機物蒸發、金屬粉末等。配有樣品擋板，可手動或自動開/關擋板，達到及時遮擋樣品效果；觸摸屏控制，操作簡單，更有工藝儲存等功能。采用電子束蒸鍍金膜時,會有微小的黑色顆粒出現在金膜的表面,這些黑色的顆粒形狀大多不規則,尺寸集中在100 nm～-1μm之間。
高純度金顆粒蒸鍍儀
采用電子束蒸鍍金膜時,會有微小的黑色顆粒出現在金膜的表面,這些黑色的顆粒形狀大多不規則,尺寸集中在100 nm～-1μm之間,傳統的蒸鍍理論較難解釋這些黑色顆粒的成因。本文嘗試提出液態金屬表面熱發射電子引起液面上雜質顆粒"放電"的理論來解釋這一現象。這類電暈放電造成顆粒附近溫度*,瞬間將顆粒蒸發沉積在襯底。通過改變蒸鍍功率,或保持功率不變,改變電子束斑點形狀、落點位置等一系列實驗,驗證了理論的合理性。
分別用鎢坩堝和玻璃碳涂層坩堝蒸鍍金膜,采用EDS分析金膜表面黑色顆粒的主要成分.對比金膜表面黑色顆粒分布的密度;根據兩種坩堝蒸金膜時的物理學特征不同,研究黑色顆粒產生的機理,解釋碳玻璃涂層坩堝蒸金黑色顆粒較多的原因;并利用玻璃碳坩堝采取不同的工藝條件進行對比試驗,成功減少了金膜表面的黑色顆粒,為教學實驗、真空鍍膜工藝和集成電路生產領域蒸鍍高質量的金膜提供幫助.
-熱蒸發源：電阻式熱蒸發舟，交流電源、坩堝蒸發；
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腔體：不銹鋼或石英腔體可供客戶選擇；
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泵：前級干泵，分子泵；
- Load Lock
樣品傳輸腔室：手動或自動傳輸，高真空，支持多種樣品襯底(選配)；
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工藝控制：PC/PLC機制的自動控制、數據處理、工藝記憶儲存；
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襯底固定：單襯底固定，客戶化襯底固定方式；
- 襯底夾具：加熱，冷卻，偏置，旋轉等；
- 保護樣品：配有樣品擋板，可手動或自動開/關擋板，達到及時遮擋樣品效果；
高純度金顆粒蒸鍍儀KT-Z1650CVD技術資料
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
加熱方式 | 數字式功率調整器 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1200W |
輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A |
真空度 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品蒸發源調節距離 | 70-140mm |
蒸發溫度調節 | ≤1800℃ |
支持蒸發坩堝類型 | 鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩 |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
可選配擴展 | 機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa） |
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