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寧波鴻宇真空科技有限公司
磁控濺射鍍膜機磁控濺射鍍膜設備是集直流磁控濺射、中頻磁控濺射和多弧離子三種技術融合一體的,可適應廣泛鍍膜靶材,無論是金屬還是介質、化合材料都可以利用濺射工藝進行鍍膜和成膜,使膜層附著力、致密度、重復度及顏色一致性等特點。可以鍍金屬膜,還可以鍍氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、氧化鈦、TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等多種膜層。全SUS304優質不銹鋼機身,隱......
型號 | HY-1214 | HY-1416 | HY-1618 |
真空室尺寸 | ?1200*1400mm | ?1400*1600mm | ?1600*1800mm |
真空室結構 | 立式單開門 | ||
鍍膜方式 | 離子配偏壓技術 | ||
極限真空 | 8.0*10-4Pa (空載) | ||
抽氣時間 | 空載大氣抽至5.0*10-2Pa小于15分鐘 | ||
焊材類型 | 鈦靶、鉻靶、鋯靶、鐵靶、鈦鋁靶,各種中頻靶、直流靶等 | ||
鍍膜顏色 | 半透明、金、銀、玫瑰金、黑、綠、藍、紫、七彩、 TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等 | ||
控制方式 | 全自動,半自動,手動 PLC觸摸屏控制 | ||
特殊要求 | 按客戶特殊工藝要求定制 |
產量大
6/8軸轉架,高效提升產量
成本低
單個產品鍍膜成本低
速度快
單批次處理時間短
操作簡單
全自動化,易于操作
環保
綠色無污染生產
遠程控制
遠程診斷和檢測
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