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磁控濺射鍍膜機

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更新時間:2024-02-11 13:35:50瀏覽次數:238次

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產品簡介

磁控濺射鍍膜機磁控濺射鍍膜設備是集直流磁控濺射、中頻磁控濺射和多弧離子三種技術融合一體的,可適應廣泛鍍膜靶材,無論是金屬還是介質、化合材料都可以利用濺射工藝進行鍍膜和成膜,使膜層附著力、致密度、重復度及顏色一致性等特點。可以鍍金屬膜,還可以鍍氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、氧化鈦、TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等多種膜層。全SUS304優質不銹鋼機身,隱......

詳細介紹

  • 設備參數

    型號

    HY-1214

    HY-1416

    HY-1618

    真空室尺寸

    ?1200*1400mm

    ?1400*1600mm

    ?1600*1800mm

    真空室結構

    立式單開門

    鍍膜方式

    離子配偏壓技術

    極限真空

    8.0*10-4Pa (空載)

    抽氣時間

    空載大氣抽至5.0*10-2Pa小于15分鐘

    焊材類型

    鈦靶、鉻靶、鋯靶、鐵靶、鈦鋁靶,各種中頻靶、直流靶等

    鍍膜顏色

    半透明、金、銀、玫瑰金、黑、綠、藍、紫、七彩、 TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等

    控制方式

    全自動,半自動,手動 PLC觸摸屏控制

    特殊要求

    按客戶特殊工藝要求定制

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