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HORIBA科學儀器事業部
H20-UVL真空紫外光譜儀產品簡介H20-UVL真空紫外單色儀在真空環境下覆蓋100-400nm(3-12.4eV),在大氣環境下覆蓋190nm-400nm(3-6.5eV)。結合真空紫外光源和蝸輪驅動實現快速精確的光譜掃描,可作為一個優異的真空紫外單色光源使用。在分辨率要求不高的情況下,配備單通道探測器,H20-UVL還是一個高性價比的真空紫外光譜分析系統。
產品簡介
H20-UVL真空紫外單色儀在真空環境下覆蓋100-400nm(3-12.4eV),在大氣環境下覆蓋190nm-400nm(3-6.5eV)。結合真空紫外光源和蝸輪驅動實現快速精確的光譜掃描,可作為一個優異的真空紫外單色光源使用。在分辨率要求不高的情況下,配備單通道探測器,H20-UVL還是一個高性價比的真空紫外光譜分析系統。
真空紫外光譜儀技術特點
單片式光學結構確保光通量zui大化,高光學穩定性
配備4型消像差單色儀光柵,全光譜范圍線色散均勻
全自動蝸輪高速驅動光柵
光柵表面鍍氟化鎂膜,優化120nm以上波長的輸出
典型應用
透射反射測量
熒光激發
可調濾波/光源
激光諧波濾波
真空紫外光譜儀技術指標
光學設計 | HJY的4型消像差單色儀光柵 |
焦長 | 200 mm |
孔徑 | f/4.2 |
刻線密度 | 1200 gr/mm |
光學鍍膜 | 針對121nm優化的MgF2膜 |
偏轉角 | 64° |
色散 | 100nm處3.6 nm/mm |
驅動 | 高速蝸輪驅動 |
zui小步進 | 0.06 nm |
速度 | 400 nm/s |
精度 | +/- 0.2 nm或+/-0.06 nm (*) |
可重復性 | +/-0.06 nm |
分辨率 | 優于0.5 nm (**) |
高真空 | 10-5 mbar (***) |
真空泵法蘭 | DN40 KF |
入射/出射接口 | 測微狹縫(10 um 至 2 mm) |
入射/出射法蘭 | DN25 KF |
電腦接口 | USB2.0 |
可選項 | |
超高真空 | 10-9 mbar |
狹縫高度調節器 | 2, 4, 6 mm |
(*)使用我們固件中的軟件驅動矯正可以提高單色儀的精度 | |
(**)使用寬10微米,高2mm的狹縫在121nm處測量 (***)H20-UVL不含真空泵和真空計 |
附件
前鏡腔,配備兩塊超環面鏡,實現光源和單色儀之間的光學匹配
后鏡腔,配備兩塊超環面鏡,實現單色儀和樣品室之間的光學匹配
樣品室,可搭載4塊直徑不大于25mm的樣品
偏振插片
制冷機,zui低至4K
真空泵
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商鋪:http://www.kindlingtouch.com/st711148/
主營產品:HORIBA歐洲總部 自從1988年合并了美國SPEX公司和1995年合并了法國Dilor,Sofie等公司后,Jobin Yvon公司于1997年加入了世界第六大儀器制造集團――HORIBA公司,完成了公司強強聯手。如今Jobin Yvon在法國、美國、日本、英國、意大利、荷蘭設有生產廠家,其分支機構遍布。現在Jobin Yvon公司除了提供各種類型的衍射光柵和離子刻蝕全息光柵外,還提供各種類型的光譜儀產品,如:激光拉曼光譜儀(Raman),熒光(壽命)光譜儀(FL),直讀火花光譜儀(SPARK),電感耦合等離子發射光譜儀(ICP),輝光放電光譜儀(GDS),橢圓偏振光譜儀(Ellipsometry),特殊搭建系統(System)及各種光學光譜器件(成像光譜儀,光源,IR檢測器,CCD檢測器等)。 目前,HORIBA Jobin Yvon公司設立了薄膜部、拉曼(光譜儀)部、發射(光譜儀)部、熒光(光譜儀)部、法醫部、光學儀器部、光柵&OEM儀器部等7個部門。旨在為您提供強大的技術支持與科研保障!
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