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真空紫外光譜儀

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具體成交價以合同協議為準

產品型號H20-UVL

品       牌

廠商性質生產商

所  在  地國外

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更新時間:2024-01-23 12:18:33瀏覽次數:339次

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經營模式:生產廠家

商鋪產品:96條

所在地區:上海上海市

聯系人:王先生 (經理)

產品簡介

H20-UVL真空紫外光譜儀產品簡介H20-UVL真空紫外單色儀在真空環境下覆蓋100-400nm(3-12.4eV),在大氣環境下覆蓋190nm-400nm(3-6.5eV)。結合真空紫外光源和蝸輪驅動實現快速精確的光譜掃描,可作為一個優異的真空紫外單色光源使用。在分辨率要求不高的情況下,配備單通道探測器,H20-UVL還是一個高性價比的真空紫外光譜分析系統。

詳細介紹

產品簡介

H20-UVL真空紫外單色儀在真空環境下覆蓋100-400nm(3-12.4eV),在大氣環境下覆蓋190nm-400nm(3-6.5eV)。結合真空紫外光源和蝸輪驅動實現快速精確的光譜掃描,可作為一個優異的真空紫外單色光源使用。在分辨率要求不高的情況下,配備單通道探測器,H20-UVL還是一個高性價比的真空紫外光譜分析系統。
 
真空紫外光譜儀
技術特點
    單片式光學結構確保光通量zui大化,高光學穩定性
    配備4型消像差單色儀光柵,全光譜范圍線色散均勻
    全自動蝸輪高速驅動光柵
    光柵表面鍍氟化鎂膜,優化120nm以上波長的輸出

典型應用
    透射反射測量
    熒光激發
    可調濾波/光源
    激光諧波濾波
 
真空紫外光譜儀技術指標

光學設計

HJY4型消像差單色儀光柵

焦長

200 mm

孔徑

f/4.2

刻線密度

1200 gr/mm

光學鍍膜

針對121nm優化的MgF2

偏轉角

64°

色散

100nm3.6 nm/mm

驅動

高速蝸輪驅動

zui小步進

0.06 nm

速度

400 nm/s

精度

+/- 0.2 nm+/-0.06 nm (*)

可重復性

+/-0.06 nm

 分辨率

優于0.5 nm (**)

高真空

10-5 mbar (***)

真空泵法蘭

DN40 KF

入射/出射接口

測微狹縫(10 um  2 mm)

入射/出射法蘭

DN25 KF

電腦接口

USB2.0

可選項

超高真空

10-9 mbar

狹縫高度調節器

2, 4, 6 mm

(*)使用我們固件中的軟件驅動矯正可以提高單色儀的精度

(**)使用寬10微米,高2mm的狹縫在121nm處測量

(***)H20-UVL不含真空泵和真空計


 
附件
   前鏡腔,配備兩塊超環面鏡,實現光源和單色儀之間的光學匹配
   后鏡腔,配備兩塊超環面鏡,實現單色儀和樣品室之間的光學匹配
   樣品室,可搭載4塊直徑不大于25mm的樣品
   偏振插片
   制冷機,zui低至4K
   真空泵


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