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HORIBA科學儀器事業部
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H20-UVL真空紫外光譜儀產品簡介H20-UVL真空紫外單色儀在真空環境下覆蓋100-400nm（3-12.4eV），在大氣環境下覆蓋190nm-400nm（3-6.5eV）。結合真空紫外光源和蝸輪驅動實現快速精確的光譜掃描，可作為一個優異的真空紫外單色光源使用。在分辨率要求不高的情況下，配備單通道探測器，H20-UVL還是一個高性價比的真空紫外光譜分析系統。
產品簡介
H20-UVL真空紫外單色儀在真空環境下覆蓋100-400nm（3-12.4eV），在大氣環境下覆蓋190nm-400nm（3-6.5eV）。結合真空紫外光源和蝸輪驅動實現快速精確的光譜掃描，可作為一個優異的真空紫外單色光源使用。在分辨率要求不高的情況下，配備單通道探測器，H20-UVL還是一個高性價比的真空紫外光譜分析系統。
真空紫外光譜儀技術特點
單片式光學結構確保光通量zui大化，高光學穩定性
配備4型消像差單色儀光柵，全光譜范圍線色散均勻
全自動蝸輪高速驅動光柵
光柵表面鍍氟化鎂膜，優化120nm以上波長的輸出
典型應用
透射反射測量
熒光激發
可調濾波/光源
激光諧波濾波
真空紫外光譜儀技術指標
| 光學設計 | HJY的4型消像差單色儀光柵 |
| 焦長 | 200 mm |
| 孔徑 | f/4.2 |
| 刻線密度 | 1200 gr/mm |
| 光學鍍膜 | 針對121nm優化的MgF2膜 |
| 偏轉角 | 64° |
| 色散 | 100nm處3.6 nm/mm |
| 驅動 | 高速蝸輪驅動 |
| zui小步進 | 0.06 nm |
| 速度 | 400 nm/s |
| 精度 | +/- 0.2 nm或+/-0.06 nm (*) |
| 可重復性 | +/-0.06 nm |
| 分辨率 | 優于0.5 nm (**) |
| 高真空 | 10-5 mbar (***) |
| 真空泵法蘭 | DN40 KF |
| 入射/出射接口 | 測微狹縫(10 um 至 2 mm) |
| 入射/出射法蘭 | DN25 KF |
| 電腦接口 | USB2.0 |
| 可選項 | |
| 超高真空 | 10-9 mbar |
| 狹縫高度調節器 | 2, 4, 6 mm |
| (*)使用我們固件中的軟件驅動矯正可以提高單色儀的精度 | |
| (**)使用寬10微米，高2mm的狹縫在121nm處測量 (***)H20-UVL不含真空泵和真空計 | |
附件
前鏡腔，配備兩塊超環面鏡，實現光源和單色儀之間的光學匹配
后鏡腔，配備兩塊超環面鏡，實現單色儀和樣品室之間的光學匹配
樣品室，可搭載4塊直徑不大于25mm的樣品
偏振插片
制冷機，zui低至4K
真空泵
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