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HORIBA等離子體分析飛行時(shí)間質(zhì)譜儀

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產(chǎn)品型號PP-TOFMS

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更新時(shí)間：2023-11-09 12:41:51瀏覽次數(shù)：272次

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HORIBA科學(xué)儀器事業(yè)部

經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：96條

所在地區(qū)：上海上海市

聯(lián)系人：王先生（經(jīng)理）

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產(chǎn)品簡介

HORIBA等離子體分析飛行時(shí)間質(zhì)譜儀原理：等離子體分析飛行時(shí)間質(zhì)譜儀結(jié)合了輝光放電等離子體的濺射速度和時(shí)間飛行質(zhì)譜的快速以及高靈敏度，實(shí)現(xiàn)了高分辨率和高靈敏度條件下固體材料的快速化學(xué)深度剖析。

詳細(xì)介紹

HORIBA等離子體分析飛行時(shí)間質(zhì)譜儀原理：
等離子體分析飛行時(shí)間質(zhì)譜儀結(jié)合了輝光放電等離子體的濺射速度和時(shí)間飛行質(zhì)譜的快速以及高靈敏度，實(shí)現(xiàn)了高分辨率和高靈敏度條件下固體材料的快速化學(xué)深度剖析。

HORIBA等離子體分析飛行時(shí)間質(zhì)譜儀重點(diǎn)應(yīng)用領(lǐng)域：

● 摻雜分析（半導(dǎo)體、光電子、太陽能光伏、傳感器、固態(tài)光源）

● 表面和整體污染鑒定（PVD 鍍層、摩擦層、電氣鍍層、光學(xué)鍍層、磁性鍍層）

● 腐蝕科學(xué)和技術(shù)（示蹤物、標(biāo)記監(jiān)測、同位素標(biāo)記）

● 界面監(jiān)測

技術(shù)參數(shù)：

● 采集速率：每30μs一張全質(zhì)譜
● 質(zhì)量分辨率：選擇高分辨率模式時(shí)，在m/z 208可達(dá) 5000
● 動態(tài)范圍：107
● 質(zhì)量準(zhǔn)確度：40 ppm
● 靈敏度：103 cps/ppm
● 深度分辨率：nm
● 正負(fù)離子模式
● 4個(gè)離子的靈活消隱功能
● 簡單易用的水平樣品裝載

產(chǎn)品特點(diǎn)：
● 樣品分析快速無預(yù)處理：無需超高壓腔
● 適用于各種材料及鍍層分析
● 全質(zhì)量覆蓋：可提供從 H 到U元素的完整質(zhì)譜和分子信息，包括同位素監(jiān)測
● *3D 數(shù)據(jù)，脈沖射頻模式（）
● 高深度分辨率：測試薄層可至 1nm
● 薄層到厚層：層厚可達(dá) 100μm
● 無需校準(zhǔn)的半定量分析：濺射和電離過程分離，使得基體效應(yīng)zui小化

關(guān)鍵詞：飛行時(shí)間質(zhì)譜儀質(zhì)譜儀傳感器