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1200℃四坩堝移動型管式爐

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產品簡介

型號：OTF-1200X-II-ZL產品概述：OTF-1200X-II-ZL是一款爐管可在爐管內部移動的（在真空氣氛保護環境下移動）管式爐，最多可依次移動4個坩堝

詳細介紹

型號：OTF-1200X-II-ZL

產品概述：OTF-1200X-II-ZL是一款爐管可在爐管內部移動的（在真空氣氛保護環境下移動）管式爐，最多可依次移動4個坩堝。特殊的坩堝推送機構，可將坩堝在爐管內推出后再拉回，讓坩堝能做往返移動。坩堝移動位置&爐體的溫度控制都采用一觸摸屏控制。此款設備可進行物理化學混合沉積（HPCVD），快速熱蒸發（RTE）等實驗，特別適合制備多層二維晶體材料。

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技術參數實驗案例警示/應用提示配件詳情

開啟式管式爐	雙溫區管式爐：兩個獨立的溫控系統分別獨立控制兩個溫區加熱區長度：溫區1:200mm, 溫區2:200mm 爐管材料：高純石英爐管尺寸：外徑: 60 ×內徑: 54×長: 760 mm 溫度曲線圖(兩個溫區設置在800℃時所測，僅供參考）（可點擊圖片查看詳細資料））工作溫度：1200℃（<1hr) 連續工作溫度：1100℃ 控溫精度：+/-1℃
真空密封	配有不銹鋼密封法蘭，上面安裝有不銹鋼截止閥和機械壓力表進氣端法蘭接口為Φ6.35卡套接頭，出氣端法蘭接口為KF25接口法蘭密封圈采用水冷卻，使用時需要通入冷卻水，可在本公司選購循環水冷機真空度：10E-2 torr（采用機械泵），10-E5 torr(采用分子泵)
坩堝移動機構（轉輪式法蘭）	一根鎧裝熱電偶通過左端法蘭通入到爐管內部，并與坩堝相連接(圖1) 通過步進電機驅動使坩堝移動，并和熱電偶和坩堝一起移動，實時監測樣品的溫度進氣端法蘭轉輪式法蘭（圖2）可同時在轉輪系統中放入4個坩堝，可交替將放入4種材料的石英坩堝自動送入到石英管中（可在真空狀態或氣氛保護狀態進行運作）
坩堝移動控制	通過一步進電機控制坩堝移動的速度和位置可控制坩堝最小移動位移為1mm 坩堝移動距離為200mm
防腐型數顯真空計	配有一數顯防腐型真空計當氣壓在10mbar以上時，不需因測量氣體種類不同而進行系數轉換對于氣體的壓力檢測具有較高的精確度和重復性因為傳感器上鍍有涂層，所以具有較好的抗腐蝕性測量范圍：3.8x10-5 -1125 Torr
混氣系統	此套設備中配有一2路混氣系統輸出功率：18W 工作溫度：5-45℃ 氣壓：3×106Pa 精度：±1%FS 質量流量計量程： 1:0-100sccm 2:1-199sccm 可根據客戶要求選購1-5路供氣系統
產品尺寸	2400L×600W×1300mm H
國家
質保	一年質保期，終生維護（不包含爐管，密封圈和加熱元件）
質量認證	CE認證所有電器元件（>24V）都通過UL / MET / CSA認證若客戶出認證費用，本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CAS認證
使用注意事項	爐管內氣壓不可高于0.02MPa 由于氣瓶內部氣壓較高，所以向爐管內通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全當爐體溫度高于1000℃時，爐管內不可處于真空狀態，爐管內的氣壓需和大氣壓相當，保持在常壓狀態進入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊石英管的長時間使用溫度＜1100℃ 對于樣品加熱的實驗，不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關注壓力表的示數，若氣壓表示數大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發生（如爐管破裂，法蘭飛出等）
應用注意事項	此款管式爐具有多種用途熱蒸發：把蒸發料放在坩堝里，通過移動坩堝來精確找到所需要的蒸發溫度 HPCVD：和熱蒸發相似，可通入反應氣體與蒸發的物料反應后再沉積可用于制作多層二維晶體