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Research-紅外蒸發鍍膜機

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更新時間：2023-08-08 18:37:59瀏覽次數：164次

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產品簡介

Research-紅外蒸發鍍膜機

詳細介紹

真空腔體：根據客戶需求定制。

真空漏率：1X10^-6Pa.L/S；
極限真空優于5X10^-5Pa，標準配置分子泵系統。
加熱功率：小于12KW；
溫控儀表：配置觸摸屏溫控儀和專用溫控儀表，自主編程的溫控系統，配置功率控制器，帶有方便的溫度分配和功率分配接線端；
腔體：功能材料透明腔體，直徑不低于240mm,耐高溫不低于1000℃，短期工作可達到1200℃。
溫度隔離罩：配置專用溫度隔離罩，降低環境溫度對系統的影響，同時具有安全隔離功能。
配置2套坩堝，并設有陶瓷封結的溫度傳感器，精度為：±1℃，過沖不超過2℃；
配置2套基片溫度平衡系統，配置進口精密耐高溫專用傳感器，精度為：±1℃，響應速度極快，特別適合超精密溫度控制；
配置能量反射屏一套，配置有專用沉積環境倉，沉積反應倉可擴展至水冷系統；
配置移動小車一套，并配置不銹鋼安裝板和推手，配置福馬輪4套，可根據客戶實際需求設計為一體機和桌面式；
配置有SUS304柔性真空管路和相關標準件；
配置三路復合真空計一套，帶RS485控制端口，配置有不銹鋼毛細管路泄壓閥，可以沉積柔性薄膜材料；
可選配潔凈無油高真空真空系統。