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鄭州科創實驗儀器設備有限公司
鄭州科創實驗儀器設備有限公司
| 材質 | 316不銹鍘 | 加工定制 | 是 |
|---|---|---|---|
| 適用范圍 | 實驗室設備 | 用途 | 實驗室 |
科研實驗室真空石英腔體
真空石英腔體通常用于制造高真空環境下的實驗室設備和工業設備。這些設備包括：
1. 惰性氣體保護焊接設備：惰性氣體保護焊接是一種用于保護焊件不被氧化的焊接方法，常用于在高真空或惰性氣體環境下進行。
2. 電子束物理氣相沉積設備：這種設備使用電子束來蒸發和沉積金屬薄膜或其他材料，通常在高真空環境下進行，以便控制沉積過程和減少污染物。
真空石英腔體通常用于制造高真空環境下的實驗室設備和工業設備。這些設備包括：
科研實驗室真空石英腔體
1. 惰性氣體保護焊接設備：惰性氣體保護焊接是一種用于保護焊件不被氧化的焊接方法，常用于在高真空或惰性氣體環境下進行。
科研實驗室真空石英腔體
2. 電子束物理氣相沉積設備：這種設備使用電子束來蒸發和沉積金屬薄膜或其他材料，通常在高真空環境下進行，以便控制沉積過程和減少污染物。
3. 分子束外延設備：這種設備使用分子束在高真空環境下外延生長單晶薄膜，通常用于制造半導體器件和其他電子設備。
4. 離子束蝕刻設備：這種設備使用離子束來蝕刻材料表面，通常用于制造微電子器件、光子學器件和傳感器等高精度設備。
除了以上應用，真空石英腔體還可以用于制造太陽能電池、光學儀器和研究天體物理學等領域。
真空腔體（Vacuum chamber）是一種密封的容器，內部的氣壓遠低于大氣壓。它被廣泛應用于以下領域：
1. 材料處理與制備：例如薄膜沉積，這是一種將材料沉積在基板上的過程，需要在高度真空環境下進行以確保高純度和高質量的沉積物。
2. 真空測試：某些儀器和設備需要在低氣壓條件下進行性能和耐久性測試，例如太空器設備。
3. 半導體制程：真空對處理硅片和其他半導體材料至關重要，因為在高度真空環境下，避免了氧氣及其他化學反應物的產生。
4. 研究和實驗：很多物理和化學實驗需要在真空條件下進行，例如基本粒子物理實驗、低溫物理學、電子顯微鏡等。
5. 熱真空試驗：用于模擬太空中的低壓和低氣氛條件，對航天器進行實際工作環境的模擬試驗。
6. 吸氣設備：例如，真空泵將氣體從腔體中抽出，產生真空，可用于工業生產、實驗室研究等。
7. 真空包裝：這種包裝形式可以降低被包裝物品與空氣的接觸，有助于延長食品保質期，防潮和防霉等。
8. 蒸發和密封：真空腔體可以用于化工行業，實現高效蒸發和密封過程。
等離子體石英腔是一種石英材料制成的封閉腔室，內部常常充滿等離子體氣體。等離子體是一種高溫、高密度的氣體，由帶正電荷的離子和帶負電荷的電子組成，具有導電性能。這種石英腔可以用于等離子體物理研究、等離子體加工技術以及材料表面改性等領域。
等離子體石英腔可以有效地將等離子體與外界隔離，從而提高等離子體的純度和密度，同時保護外部設備不受等離子體的影響。例如，在半導體制造過程中，石英腔可以通過對氣體進行高頻電場激勵來產生等離子體，用于蝕刻、沉積和表面改性等工藝。此外，石英腔還能保持良好的熱穩定性和耐腐蝕性，使其能夠在高溫、高壓和高氧化性的環境下，長期運行。
電感耦合等離子（Inductively Coupled Plasma，ICP）和電容耦合等離子（Capacitively Coupled Plasma，CCP）是兩種廣泛用于實驗室中的等離子體源。它們的主要區別在于它們產生等離子體的機制和特點。
ICP是在高整流器運作的RF（射頻）電源提供的高頻RF（常見頻率是27.12 MHz）的作用下工作的，而這個RF電源將產生的高頻電場通過感應耦合傳送到氣體放電管（都柏林管）內。這種電場產生了交變電壓，導致氣體分子發生電離，產生了等離子體。ICP的優點在于它可以產生非常高的電子溫度和較高的等離子體密度，并用于產生高靈敏度的熒光譜檢測。
另一方面，CCP是通過直接應用高頻電場在帶電片和反電極之間產生的交變電場來產生等離子體的。這種電場使電極表面產生周期性的荷電狀態變化，從而促進了等離子體的生成。CCP的優點是其低能耗和簡單的結構，但它通常只能產生低電子溫度和低等離子體密度的等離子體，因此在熒光譜檢測方面使用較少。
因此，這兩種等離子體產生技術在實驗室中都得到廣泛應用，并根據所需的特定應用和實驗室條件進行選擇。
技術規格參數：
腔體材質：鋁合金+石英玻璃
腔體尺寸：內徑110mmx深度220MM
腔體容積：2.5L
腔體觀察窗：內徑φ35 石英玻璃
腔體抽氣口：KF16
腔體進氣口：6MM卡套
腔體真空度：機械泵小于等于0.5Pa
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