小型金屬真空磁控濺射儀器，能夠在非導電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）的薄膜。在較短時間內(nèi)即可形成具有細粒度的均勻薄膜，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（SEM）分析。儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學，所得結(jié)果一致，可重復性高。

詳細介紹

一、公司背景介紹：

（1）鄭州科探儀器設備是高質(zhì)量定制物理氣相沉積（PVD）系統(tǒng)的設計者和制造商，客戶服務和售后服務出色。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術(shù)經(jīng)驗。其研發(fā)團隊在學界科學家和工程師的支持下，高度積極地開發(fā)新設計以滿足客戶的特殊要求。

（2）鄭科探的工程團隊設計和制造的組件符合高質(zhì)量標準。KT-Z1650PVD真空鍍膜機已通過分銷商銷往許多大學和研究中心，并得到了很好的參考和反饋。

二、儀器描述：?小型金屬真空磁控濺射儀器?KT-Z1650PVD，能夠在非導電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au/Pd）的薄膜。在較短時間內(nèi)即可形成具有細粒度的均勻薄膜，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（SEM）分析。儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學，所得結(jié)果一致，可重復性高。

三、產(chǎn)品特點：

彩色觸摸屏：數(shù)據(jù)輸入簡單快速。

通過觸摸屏中直觀檢測數(shù)據(jù)和曲線；歷史頁面可顯示歷史涂層信息。

可控鍍膜速率，可得到更精細的晶粒結(jié)構(gòu)。

可手動或自動，根據(jù)時間或根據(jù)厚度進行濺射。

樣品臺更換簡單：標準旋轉(zhuǎn)樣品臺或選用行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺。

標準樣品臺高度可調(diào)、可傾斜、可旋轉(zhuǎn)；行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺為多孔樣品帶來好的噴金效果。

四、小型金屬真空磁控濺射儀器KT-Z1650PVD廠家供應技術(shù)參數(shù)：

控制方式	7寸人機界面手動自動模式切換控制
濺射電源	直流濺射電源
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1000W
輸出電壓電流	電壓≤1000V 電流≤1A
真空	機械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤5*10^-3Pa
濺射真空	≤30Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
樣品臺	可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺轉(zhuǎn)速	8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離	40-105mm
真空測量	皮拉尼真空計（已安裝測量范圍10E5Pa 1E-1Pa）
預留真空接口	KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口