HIGH PRECISION E-BEAM EVAPORATION COATING MACHINE 高精密電子束蒸發(fā)鍍膜機
在玻璃/PC/PMMA基片上形成高精度光學多層薄膜的精密真空鍍膜機;將滿足客戶需求的多種元件組合在一起,可以形成品質更加優(yōu)良的薄膜;基片傘架采用中心旋轉方式(公轉),減少產生振動和顆粒,使基片能夠穩(wěn)定旋轉。
采用坩堝上沒有極片的電子束加熱方式作為蒸發(fā)源,可以穩(wěn)定地形成多層膜;采用本公司的比率控制法和多點在線監(jiān)控,可以形成高精度且穩(wěn)定的光學多層膜;可利用操作性良好的升降機來取出基片傘架。
使用均勻分布的高離子電流密度的離子源,搭載雙電子槍,多點和環(huán)型坩堝可鍍100層以上,利用自動蒸鍍控制系統(tǒng)實現(xiàn)全自動蒸鍍過程,工件架可選擇鐘罩式或行星式。
AR 膜(基材玻璃透過率>91.5%):
■ 420-680nm波段,單面平均透過率>95%,反射率小于0.5(平均值)% ;
■ 雙面平均透過率>98%,反射率小于0.5(平均值)%;
AS/AF膜測試標準:
■ 初始接觸角范圍為 115±5°;
■ 鋼絲絨耐摩擦測試標準:用 0000#鋼絲絨,面積為 10*10mm,行程 40 次/分,負載1Kg,5000 次往返摩擦后,接觸角大于 100°;
■ 橡皮擦測試標準: 直徑 6mm 橡皮擦,行程 25 次/分,負載1Kg, 2500 次往返摩擦后,接觸角大于 100°;
備注:測試樣片玻璃需為經(jīng)過精密拋光過的觸摸屏蓋板專用玻璃,表面光潔。
優(yōu)勢:
?提高沉積速率以實現(xiàn)更高產量
?在半導體,光電和光子學領域實現(xiàn)高精度工藝
?堅固耐用且易于維護