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W5型全譜直讀光譜分析儀

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更新時間：2023-07-16 17:20:19瀏覽次數：205次

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產品簡介

W5型全譜直讀光譜儀擁有可快速的對金屬材料樣品進行元素測定

詳細介紹

W5型全譜直讀光譜分析儀

W5型全譜直讀光譜儀擁有可快速的對金屬材料樣品進行元素測定。光學系統采用CMOS檢測器，光譜范圍覆蓋全部典型材料。無論從低含量元素還是到高含量的元素，它都能準確、可靠的分析。公司在行業內擁有光譜多年的生產經驗積累，針對不同材料、不同要求，設計了這款全新的、更具性價比的全譜直讀光譜儀，可滿足金屬制造業、加工業及金屬冶煉用于質量監控、材料牌號識別、材料研究和開發的應用。

黑科技一：性能*的光學系統

帕邢-龍格結構凹面光柵，全譜覆蓋，滿足客戶對全元素檢測的需求。

直射式光學技術及采用MgF材料制作的光學器件，保證紫外區域的性能。

高分辯率多CMOS讀出系統，較低的暗電流，較好的檢出限，較高的穩定性，較強的靈敏度，滿足N的分析要求。

黑科技二：智能數字激發光源

全數字化智能復合光源DDD技術，帶來*分析性能。

緊湊的設計及半導體控制技術，使得光源具有較好的穩定性、更強的可靠性。

高能預燃技術（HEPS),激發參數調整，充分滿足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發要求。

黑科技三：智能樣品激發臺設計

激發臺直接將激發光導入光學系統

開放式樣品臺，滿足大樣品測試要求。

變換電極可對小樣品及復雜幾何形狀樣品分析有較好的性能

視頻識別技術，確保樣品臺激發安全，可監測樣品臺的全景。

黑科技四：智能集成氣路模塊
智能氬氣流設計及粉塵收集清理裝置
氬氣噴射技術，有效消除激發過程中等離子體的飄移，確保CCD檢測器能夠觀測高溫區域光信號，提高精度和穩定性。
激發后，脈沖式氬氣吹掃，提高粉塵去除效果，提升儀器的短期和長期穩定性。

黑科技五：智能真空測量和控制
真空系統程控，在保證真空度的同時減少真空泵的運行時間，
雙級設置，在儀器不運行的情況下，開啟待機真空運行狀態。
多級真空隔離措施及增加濾油裝置，保障光學元器件在可靠的環境中工作。

黑科技六：透鏡清理裝置
不銹鋼真空球閥，在清理透鏡時有良好的隔離效果。
單板式透鏡設計，拆裝方便。
交叉機械裝置，在未解除隔離的情況有效保護光學系統。

黑科技七：計算機及讀出系統
計算機與手機（或PAD)可同步顯示，方便面板操作。
高分辯率多CMOS讀出系統及FPGA、DSP和ARM技術，進行數據采集。
以太網和TCP/IP協議，數據傳輸高速、可靠。
數據可遠程傳輸，全面實現網絡化。實時方便對儀器運行狀態的監測和控制。
數據可進行云打印。

黑科技八：專用的光譜分析軟件
光譜儀制作標準的專用光譜儀軟件，操作界面人性化，功能標準化。
儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質分析方法和*的解決方案。
可根據用戶的材料要求，可現場延長標準曲線的測量上、下限。

其它黑科技：
自動光路校準
低氬氣消耗
通用可調樣品適配器
基體擴展功能
標準化參數修改
控樣修正功能
安全、開放的便捷設計
結果實時顯示，可為用戶定制打印報告功能
軟件快速診斷
界面操作簡單
可靠的工廠校準功能
技術參數：

項目	指標
檢測基體	鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基、錳基、鉻基等13個基體
光學系統	帕型-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統
波長范圍	165~580nm（可安裝上下限檢測器擴大波長范圍）
光柵焦距	400mm
探測器	高分辯率多CMOS圖像傳感器
光源類型	DDD數字激發光源，高能預燃技術（HEPS）
放電頻率	100-1000Hz
放電電流	大400A
檢測時間	依據樣品類型而定，一般在25s左右
電極類型	鎢材噴射電極
分析間隙	樣品臺分析間隙:3.4mm
真空系統	真空軟件自動控制、監測
光室恒溫	34℃，溫度自動監測
氬氣純度	99.999%
氬氣壓力	0.5MPa
工作電源	AC220V 50/60Hz
儀器尺寸	860680438mm
儀器重量	約100kg