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輝光放電發(fā)射光譜儀（GD-OES）

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

●射頻發(fā)生器是E類標(biāo)準(zhǔn)，對(duì)穩(wěn)定性和濺射坑形狀都進(jìn)行了優(yōu)化以滿足實(shí)時(shí)表面分析

詳細(xì)介紹

●射頻發(fā)生器是 E 類標(biāo)準(zhǔn)，對(duì)穩(wěn)定性和濺射坑形狀都進(jìn)行了優(yōu)化以滿足實(shí)時(shí)表面分析。
●射頻源可以分析傳統(tǒng)和非傳統(tǒng)鍍層和材料，對(duì)于易碎樣品，還可以使用脈沖式同步采集優(yōu)化測(cè)試。
●從 110nm到 800nm 同步全光譜覆蓋，包括分析 H、O、C、N 和 Cl 的深紫外通道。
HORIBA 研發(fā)的離子刻蝕型全息光柵具有高的光通量和光譜分辨率，光學(xué)效率和靈敏度都表現(xiàn)優(yōu)良。
●HDD 探測(cè)器兼具檢測(cè)速度和靈敏度。
●內(nèi)置的微分干涉儀DIP可實(shí)時(shí)測(cè)量濺射坑深度和剝蝕速率。
●寬敞簡(jiǎn)潔的大樣品倉易于裝卸樣品，操作簡(jiǎn)單。
●QUANTUM™ 軟件配置了Tabler 報(bào)告編寫工具。
●激光中心定位裝置（正在申請(qǐng)）可定位樣品測(cè)試位置。
HORIBA 的輝光放電光譜儀可以選配單色儀，實(shí)現(xiàn)n+1元素通道的同時(shí)也提高了設(shè)備的靈活性。