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格林斯達（北京）環保科技股份有限公司
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去除效率： CF490%@150slm、NF395%@300slm 設備材質： 內腔PTEE、水箱CPVC 設備尺寸： 800*800*1850 設備能耗： 12kw for CF490%;9kw for NF395% 設備水量： 4slm
等離子水洗Local Scrubber設備：去除半導體Dry Etch、ThinFilm、Diffusion等晶圓工藝制程中使用或產生的PFC溫室氣體和有毒有害氣體，如：CF4、NF3、SF6、C2F6、CHF3、CH2F2等。
通過直流電源，使工作氣體（氮氣）進入等離子體反應器，在正負電流的作用下，被電離成等離子體，瞬間產生巨大的火焰，產生的高溫火焰將廢氣分解。
本裝置的直流電弧等離子體為非轉移型，兩電極區域不參與反應，只產生等離子體，產生的火焰溫度可達3000度以上。
等離子反應器的MTBF大于1年，反應室內腔的材質耐熱和耐腐，具有四個進氣口，裝置具備冷卻區、噴淋區及兩級填料除霧區，對PFC溫室氣體的去除效率>90%。
| 去除效率 | CF4>90%@150slm、NF3>95%@300slm |
| MTBF | >6months; |
| MTTR | <1.5hr |
| 材質 | 內腔PTEE、水箱CPVC |
| 等離子弧使用壽命 | >1year |
| 尺寸（mm） | 800*800*1850 |
| 進氣口 | NW50*4 |
| 耗能 | 12kw for CF4>90%;9kw for NF3>95% |
| 水量 | <4slm |
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