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更新時(shí)間:2023-01-03 15:52:11瀏覽次數(shù):858次
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等離子拋光機(jī)基本原理介紹:
等離子電漿拋光設(shè)備是利用工件與拋光液中通電脫離的金屬離子來(lái)達(dá)到拋光工件表面的結(jié)果。需要拋光的工件體吸附在工件表面,因電漿作用于工件凸起處,等離子在鹽溶液中形成高電流沖擊而去除工件凸部位,等離子拋光機(jī)特點(diǎn)是去除速度快、不破壞工件結(jié)構(gòu)。在等離子拋光過(guò)程中,由于電流的不斷流動(dòng),工件表面凹凸部位不斷變化,粗糙表面逐漸被整平,工件毛刺也被磨平整。以此達(dá)到拋光金屬工件的目的。
等離子拋光設(shè)備運(yùn)行原理
等離子也稱(chēng)為物質(zhì)的第四態(tài),是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象,使氣態(tài)粒子部分電離,這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團(tuán)、離子和電子。
等離子的出現(xiàn),就是在高溫高壓下,通過(guò)拋光劑水溶液的幫助,因在高溫高壓條件下,電子會(huì)脫離原子核而跑出來(lái),這樣原子核就形成了一個(gè)帶正電子的離子,當(dāng)這些離子達(dá)到一定數(shù)量的時(shí)候可以組成為等離子態(tài),等離子態(tài)能量很大,當(dāng)這些離子在和要拋光的物體摩擦?xí)r,頃刻間會(huì)使物體達(dá)到表面光亮的效果。速度是傳統(tǒng)拋光設(shè)備的。
同時(shí),因?yàn)槿芤翰粎⒓踊瘜W(xué)反應(yīng),基本上零消耗,所以使用成本非常低,與傳統(tǒng)的化學(xué)電解拋光相比,成本基本可以忽略不計(jì)。
等離子拋光設(shè)備的優(yōu)勢(shì)
等離子拋光機(jī)技術(shù)是一種全新的金屬表面處理工藝,等離子拋光過(guò)程中,僅是工件表面的分子層與等離子反應(yīng),分子中原子一般間距為0.1~0.3nm,而大源智能等離子拋光技術(shù)處理深度為0.3~4.5納米。一般而言,拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi),因此等離子納米化學(xué)活化技術(shù),可以的拋光工件表面,去除表面分子污染層,交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì),在拋光金屬工件表面的同時(shí),還能做到清潔油污的作用。
等離子拋光設(shè)備適用的行業(yè):
手機(jī)電子、集成電路制造、運(yùn)動(dòng)器材(高爾夫球具)、眼鏡制造、不銹鋼潔具、餐具、科研、手表飾品、汽車(chē)配件、LED制程、數(shù)碼配件、精密模具、航空航天及五金制品等行業(yè),都需要用到等離子拋光設(shè)備。
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