污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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產(chǎn)品型號(hào)
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所 在 地上海
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更新時(shí)間：2024-04-01 11:26:09瀏覽次數(shù)：129次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線設(shè)備名稱(chēng)：CEW-2000型半軸熒光磁粉探傷機(jī)概述：CEW-2000型半軸熒光磁粉探傷機(jī)系機(jī)電一體式半自動(dòng)熒光磁粉探傷設(shè)備，由電源控制系統(tǒng)、夾持磁化系統(tǒng)、磁懸液系統(tǒng)、熒光系統(tǒng)等幾大部分組成
設(shè)備名稱(chēng)：
CEW-2000型半軸熒光磁粉探傷機(jī)
概述：
CEW-2000型半軸熒光磁粉探傷機(jī)系機(jī)電一體式半自動(dòng)熒光磁粉探傷設(shè)備，由電源控制系統(tǒng)、夾持磁化系統(tǒng)、磁懸液系統(tǒng)、熒光系統(tǒng)等幾大部分組成。適用于以濕式磁粉法檢測(cè)由鐵磁性材料制成的小型管、軸棒類(lèi)等零件的表面及近表面因鑄造、鍛造、加工、疲勞等各種原因引起的裂紋和各種細(xì)微缺陷。
本設(shè)備采用手動(dòng)、自動(dòng)兩種運(yùn)行方式，由可編程控制器（PLC）集中控制。手動(dòng)時(shí)，可進(jìn)行每個(gè)功能的單步獨(dú)立操作；自動(dòng)時(shí)，設(shè)備自動(dòng)執(zhí)行PLC內(nèi)部程序，工件上料到位夾緊后，按“啟動(dòng)"鍵即可自動(dòng)執(zhí)行轉(zhuǎn)動(dòng)噴淋——磁化——轉(zhuǎn)動(dòng)觀察等一系列動(dòng)作。周向磁化采用直接通電，縱向磁化采用兩組線圈，具有良好的磁化效果。復(fù)合磁化在工件上形成旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)，一次性顯示磁跡，具有較高的工作效率。
主要技術(shù)參數(shù)：
1 周向磁化電流：AC 0-2000A有效值，連續(xù)可調(diào)；
2 縱向磁化磁勢(shì)：AC 0-12000AT有效值，連續(xù)可調(diào)，
DC 0-6000AT半波兩倍于平均值, 連續(xù)可調(diào)；
3 磁化靈敏度：15/50A 1型試片顯示清晰；
4 暫載率：≥30%；
5 電極間距： 400-1100mm，連續(xù)電動(dòng)可調(diào)；
6 工作方式：手動(dòng)、自動(dòng)運(yùn)行；
7 磁化方式：周向、縱向、復(fù)合磁化；
8 電極間距調(diào)整方式：電動(dòng)；
9 夾緊方式：氣動(dòng)；
10 退磁方式：自動(dòng)衰減式退磁；
11 周向退磁電流：AC 2000-0A，有效值，連續(xù)可調(diào)，
縱向退磁磁勢(shì)：AC 12000-0AT，有效值，連續(xù)可調(diào)，
DC 6000-0AT，平均值，連續(xù)可調(diào)；
12 交流充退磁效果：≤160A/M（0.2mT）；
13 紫外線強(qiáng)度：距光源380mm工件表面處≥1000μW/㎝2；
14 電源：三相四線380V±10% 50HZ 瞬時(shí)100A；
15 外形尺寸：2200（長(zhǎng)）×700（寬）×1600（高）mm；
16 重量：約1000Kg。
探傷原理探傷原理：
周向磁化采用直接通電，電流沿工件軸向通過(guò)，在工件上產(chǎn)生周向磁場(chǎng)，假如存在與磁通線相交的裂紋或近表面缺陷，則在裂紋兩側(cè)立即產(chǎn)生N和S兩磁極，部分磁通進(jìn)入附近的空間，形成能吸附磁粉和裂紋指示的泄漏磁通場(chǎng)，由此可檢測(cè)工件上的縱向裂紋。用線圈法對(duì)工件縱向磁化，產(chǎn)生軸向磁場(chǎng)，同理，可檢測(cè)工件上的周向裂紋。同時(shí)施加周向和縱向磁化電流，即復(fù)合磁化，在工件表面和近表面形成交變的旋轉(zhuǎn)的矢量磁場(chǎng)，在連續(xù)法探傷檢查時(shí)，可檢測(cè)工件表面和近表面各個(gè)方向的裂紋和缺陷。
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