產(chǎn)品介紹:
G&H的電光Q開關(guān)采用了光學(xué)品質(zhì)鈮酸鋰。鈮酸鋰的光電效應(yīng)使其對幾種激光類型的普克爾盒Q開關(guān)上具有極其重要的作用(包括: Nd:YAG、Nd:YALO、Nd:YLF和Er:YLF)。
G&H的晶體提供低損耗，高對比度，低波前畸變，并滿足300MW/cm2的使用條件。溫度穩(wěn)定(TS和XTS)版本的電光鈮酸鋰Q開關(guān)允許在大范圍的溫度下工作，同時(shí)保持良好的對比度。鈮酸鋰晶體Q開關(guān)可同時(shí)用于軍事和商業(yè)應(yīng)用，包括目標(biāo)位置傳送系統(tǒng)、激光測距和眼科手術(shù)。當(dāng)使用在垂直于光軸或Z軸的橫向電場上時(shí)，鈮酸鋰能夠在一個(gè)較大的溫度范圍內(nèi)表現(xiàn)出高消光比、極低傳輸損耗、低開關(guān)電壓和恒溫的特性。這些晶體的特性，結(jié)合基于鈮酸鋰晶體的生長及優(yōu)良的抗反射(AR)鍍膜方面的專業(yè)知識，使其成為加固、工業(yè)應(yīng)用中的理想選擇。
恒溫(TS)鈮酸鋰電光Q開關(guān)允許用戶在較大的溫度范圍內(nèi)操作的同時(shí)維持良好的對比度。普通級別的鈮酸鋰電光Q開關(guān)在熱釋電電荷遇冷積聚時(shí)，可能會(huì)導(dǎo)致過早的激光冷卻。在TS版本的電光Q開關(guān)中，熱釋電荷會(huì)在改良過的鈮酸鋰的一個(gè)薄表層中消散，使其導(dǎo)電，從而避免了放射性電離源的使用。
電光調(diào)Q開關(guān)可用于調(diào)節(jié)激光腔內(nèi)的損耗，以產(chǎn)生高強(qiáng)度的脈沖激光。當(dāng)電磁場作用于具有光電活性的晶體，如鈮酸鋰晶體(LN)時(shí)，折射率的變化與電場成正比，即所謂的Pockels效應(yīng)。通過活性晶體的光會(huì)經(jīng)歷與相互作用長度成比例的相位變化，從而改變其極化。通過將晶體置于一對交叉偏振器之間，光可以以非常快的開關(guān)速度通過或阻擋。這使得鈮酸鋰晶體常被用來創(chuàng)建一個(gè)Pockels Cell來調(diào)節(jié)激光腔內(nèi)的光強(qiáng)度，以實(shí)現(xiàn)Q開關(guān)和產(chǎn)生非常短的、強(qiáng)烈的激光脈沖。一個(gè)高質(zhì)量的EO Q開關(guān)有幾個(gè)重要的特點(diǎn):
l 非常低的損耗在“關(guān)閉"狀態(tài)，以限度地提高輸出強(qiáng)度
l “開"和“關(guān)"狀態(tài)的高對比度
l 能夠承受非常高的峰值激光功率
產(chǎn)品參數(shù):
產(chǎn)品型號 | 波長 | 損傷閾值 | 尺寸 | 消光比 | 波前畸變 |
7100-2 | 1064nm | 200MW/cm2 | 9 - x9 x25mm | >20 1 @ 633nm | lambda/8 @ 633 nm |
7100-11A | 1064nm | 300MW/cm2 | 9 - x9 x25mm | >20 1 @ 633nm | lambda/8 @ 633 nm |
7100-4 | 1064nm | 300MW/cm2 | 7.4 x 7.4 x 21mm | >20 1 @ 633nm | lambda/8 @ 633 nm |
注：如需詳細(xì)規(guī)格參數(shù)資料，或有其他要求，請聯(lián)系我們。
主要應(yīng)用:
?電光Q、測距儀、目標(biāo)指示器等。
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