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光譜橢偏儀

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更新時間:2022-12-31 17:23:37瀏覽次數:374次

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產品簡介

產品介紹:光譜橢偏儀是一種靈活的光學技術,可用于確定薄膜材料的光學和物理性能

詳細介紹

產品介紹:

光譜橢偏儀是一種靈活的光學技術,可用于確定薄膜材料的光學和物理性能。在沒有接觸或損害材料的情況下,它的技術已經應用于研發實驗室和用于監測薄膜生長和沉積過程的制造設備。依賴于樣品反射的偏振光束的偏振狀態的確定。當進行SE測量時,在寬波長范圍內的許多波長處確定偏振狀態。通過模型可以將偏振狀態的變化追溯到薄膜的物理性質。材料的層厚、表面粗糙度、折射率(n)和消光系數(k)等特性可以通過回歸分析精度確定。SE儀器使用白光源,并選擇單獨的波長進行電機驅動單色儀或可同時檢測多個波長的多通道檢測器進行檢測。增加采集數據的角度和波長數量可提高分析精度,復雜的層結構。

產品參數:

波長范圍

250~1100mm

光斑尺寸

1~5mm

試樣尺寸

直徑達300mm

測量厚度范圍

高達10μm

測量時間

典型的1s每次

角度范圍

1090 5度為一個間隔

精度

優于0.25%

重復性

1A

主要應用:

1.光刻膠、聚酰亞胺、氧化物、氮化物

2.光學涂層,TiO2SiO2Ta2O5 .....

3.半導體化合物,細胞間隙

4.功能薄膜在MEMS/MOEMS

5.薄膜晶體管(TFT)棧

6.導電氧化物:氧化銦錫

7.涂層的科研

8.非晶、納米晶薄膜

9.薄金屬層


關鍵詞:橢偏儀
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