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深圳市科時達電子科技有限公司
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芬蘭Picosun原子層沉積機P-300SProALD技術參數工藝溫度：50-500°C襯底尺寸和類型：300mm晶圓/單片基片傳送選件：
芬蘭Picosun 原子層沉積機P-300S Pro ALD
技術參數
工藝溫度： 50 - 500 °C
襯底尺寸和類型 ：300mm晶圓/單片
基片傳送選件：
。 半自動裝載，用單片Load lock與磁力操縱桿實現
。25片晶圓盒對盒式全自動裝載（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™ 300集群系統實現
標準 ：SEMI S2認證
前驅體：
。液態，固態，氣態，臭氧源
。等離子體（僅供200mm晶圓使用，最多4路氣體）
。前驅源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務
。6條獨立源管線,最多加載8個前驅體源（最多12個前驅體源，加上plasma管路共7根獨立源管線）
重量：820 kg
尺寸：(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm
選件： 集群工具，PICOFLOW™擴散增強，N2發生器，尾氣處理，定制設計，與工廠軟件連接服務。
驗收標準 ：
。標準設備驗收標準為Al2O3工藝，
。其他工藝可具體協商：其他工藝、應用具體驗收標準如：
- 不均勻性
- 顆粒物含量
- 重金屬污染
- 電學性能
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