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美國Nano-master兆聲晶圓清洗機SWC-4000 單晶圓及掩模版清洗設備

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產品型號SWC-4000

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更新時間：2023-06-16 18:21:22瀏覽次數：210次

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產品簡介

美國Nano-master兆聲晶圓清洗機SWC-4000特點：

詳細介紹

美國Nano-master兆聲晶圓清洗機SWC-4000

特點：

。支持12"直徑的圓片或9"x9"方片
。獨立系統
。無損兆聲,試劑，毛刷清洗及旋轉甩干
。微處理機自動控制
。化學試劑滴膠單元
。溶劑與酸分離排廢
。熱氮
。30"D x 26"W 的占地面積

SWC-4000兆聲晶圓清洗機應用：

。帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
。Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
。CMP處理后的晶圓片清洗
。晶圓框架上的切粒芯片清洗
。等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
。帶保護膜的分劃版清洗
。掩模版空白部位或接觸部位清洗
。X射線及極紫外掩模版清洗
。光學鏡頭清洗
。ITO涂覆的顯示面板清洗
。兆聲輔助的剝離工藝

選配項：

。掩模板或晶圓片夾具
。臭氧清洗
。PVA軟毛刷清洗
。高壓DI清洗
。氮氣離子發生器