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深圳市科時達電子科技有限公司
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Futurrex紫外負性光刻膠NR7-1000PNR9-1000PNR5-8000可在基本的水顯影劑中顯影的負性光刻膠特性厚度范圍lt;0.1-120.0µm對波長小于380nm的靈敏度優于表面拓撲的線寬控制直側壁適合任何膜厚能夠在單次旋涂中涂覆100µm厚的膜由于應用了150°C的軟烘烤
Futurrex紫外負性光刻膠NR7-1000P NR9-1000P NR5-8000
可在基本的水顯影劑中顯影的負性光刻膠
特性
厚度范圍 lt; µm
對波長小于380nm的靈敏度
優于表面拓撲的線寬控制
直側壁適合任何膜厚
能夠在單次旋涂中涂覆100 µm厚的膜
由于應用了150°C的軟烘烤，烘烤時間更短（對于厚膜至關重要）
出色的光速，可提高曝光量
有助于提高RIE中的功率密度，從而提高蝕刻速率和蝕刻產量
消除使用粘合促進劑
RIE /離子耐高溫 厚度 濕法蝕刻 厚度
增強附著力
NR7-250P NR9-250P
NR7-1000P NR9-1000P
NR7-1500P NR9-1500P
NR7-3000P NR9-3000P
NR7-6000P NR9-6000P
NR5-8000 NR9-8000P μm-100um
耐溫性= 150°C 在低于120°C的處理溫 耐溫性= 100°C。
度下可在25°C剝離NR5和NR7系列抗蝕劑 NR9系列抗蝕劑具有增強的附著力
在25°C時易于剝離。
Futurrex NR5-8000，：1 AR
抗蝕劑分辨率的示例
膜厚度：54µm
掩模尺寸：12µm線/間隔
曝光劑量：1100 mJ / cm 2。
焦點偏移：-15µm。
曝光工具：Ultratech步進土星
模型，i-line
另有：NR9G g和h線曝光用粘度增強 具有高粘附性適用于電鍍及濕法蝕刻
NR71G g和h線曝光用于干法蝕刻中掩模應用并能作為隔層
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