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NIL Technology緊湊型納米壓印工具CNI v3.0

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更新時間：2024-05-03 08:31:09瀏覽次數(shù)：115次

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)品介紹CNIv3.0是桌面壓印工具，易于復(fù)制微米級結(jié)構(gòu)，可用的腔室可支持多到100毫米晶圓或200毫米晶圓

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品介紹

CNI v3.0是桌面壓印工具，易于復(fù)制微米級結(jié)構(gòu)，可用的腔室可支持多到100毫米晶圓或200毫米晶圓。CNI是一種用于壓印和熱壓花的桌面尺寸工具。它允許微結(jié)構(gòu)從母版復(fù)制到基底。CNI工具可以執(zhí)行熱復(fù)制和紫外線復(fù)制。CNI工具是壓印的良好起點，但它也支持成熟和的開發(fā)工作。CNI工具操作簡單，功能強大，便于非標(biāo)準(zhǔn)流程和新實驗。

性能特點

臺式壓印工具
UV NIL@365 nm（或405 nm–自定義選項）
壓印壓力從0.3bar到11bar
真空壓印（1mbar）
堅固且易于使用
手動裝載和卸載印章和基板
自動過程控制
易于操作的軟件界面

技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)地：丹麥
壓力：壓印壓力為0.3-11bar過壓
溫度：
200ºC，可控制+/-1ºC
250ºC，帶高溫選項
紫外線照射:波長為365和/或405 nm的紫外光，在120 mm的腔室中光功率為12 W，在210 mm的腔室約為100 mW/cm2或57 W，約為165 mW/cm2。
真空：壓印室可以抽空至約1mbar的壓力
是否進(jìn)口：是
應(yīng)用：廣泛
封裝：廠家制定
性能：良好
可靠性：高