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HMDS真空烤箱

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產(chǎn)品型號(hào)EHMDS

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地寧波市

聯(lián)系方式:銷(xiāo)售部查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間:2024-04-28 09:48:19瀏覽次數(shù):192次

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經(jīng)營(yíng)模式:其他

商鋪產(chǎn)品:198條

所在地區(qū):

聯(lián)系人:銷(xiāo)售部

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

EHMDSHMDS真空烤箱的詳細(xì)資料:一、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝顯得更為重要

詳細(xì)介紹

EHMDSHMDS真空烤箱的詳細(xì)資料:

一、HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:

    在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝顯得更為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

二、產(chǎn)品特點(diǎn):

1、設(shè)備外殼采用SUS304不銹鋼材質(zhì)制作,內(nèi)膽為不銹鋼SUS316L材料制成;
   采用C型不銹鋼加熱管,均勻分布在內(nèi)膽外壁,內(nèi)膽內(nèi)無(wú)任何電氣配件及易燃易爆裝置;
   箱門(mén)采用鋼化、雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內(nèi)物品生產(chǎn)情況。

2、箱門(mén)閉合松緊能調(diào)節(jié),整體成型的硅橡膠門(mén)封圈,確保箱內(nèi)保持高真空度。

3、采用PID控制,系統(tǒng)具有自動(dòng)控溫,定時(shí),超溫報(bào)警等,采用LCD液晶顯示,觸摸式按鈕,簡(jiǎn)單易用,性能穩(wěn)定。

4、智能觸摸屏控制系統(tǒng)采用PLC模塊可供用戶(hù)根據(jù)不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時(shí)間。

5、HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì),使真空箱密封性能,確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。

6、整個(gè)內(nèi)部系統(tǒng)采用優(yōu)質(zhì)SUS316L不銹鋼材料制作,無(wú)發(fā)塵材料,適用百級(jí)光刻間凈化環(huán)境。

三、產(chǎn)品型號(hào)及參數(shù):

設(shè)備型號(hào):EHMDS-110

控溫范圍:RT+10~250℃

溫度分辨率:0.1℃

控溫精度:±0.5℃

隔板數(shù)量:2塊(標(biāo)配)

真空度:<133Pa

真空泵:DM4(內(nèi)置連接)

設(shè)備電源:AC220/50HZ

額定功率:3.5KW

內(nèi)膽尺寸mm:450x450x550 (W*D*H)

外形尺寸mm:650x640x1010 (W*D*H)

四、HMDS系列預(yù)處理系統(tǒng)的原理:

    HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱HMDS預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

五、HMDS系列預(yù)處理系統(tǒng)的一般工作流程:

    首先確定烘箱工作溫度。典型的預(yù)處理程序?yàn)椋捍蜷_(kāi)真空泵抽真空,待腔內(nèi)真空度達(dá)到某一高真空度后,開(kāi)始充入氮?dú)猓涞侥车驼婵斩群螅俅芜M(jìn)行抽真空、充入氮?dú)獾倪^(guò)程,到達(dá)設(shè)定的充入氮?dú)獯螖?shù)后,開(kāi)始保持一段時(shí)間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分。然后再次開(kāi)始抽真空,充入HMDS氣體,在到達(dá)設(shè)定時(shí)間后,停止充入HMDS藥液,進(jìn)入保持階段,使硅片充分與HMDS反應(yīng)。當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時(shí)間后,再次開(kāi)始抽真空。充入氮?dú)猓瓿烧麄€(gè)作業(yè)過(guò)程。HMDS與硅片反應(yīng)機(jī)理如圖:首先加熱到100-200,去除硅片表面的水分,然后HMDS與表面的OH一反應(yīng),在硅片表面生成硅醚,消除氫鍵作,從而使極性表面變成非極性表面。整個(gè)反應(yīng)持續(xù)到空間阻止其進(jìn)一步反應(yīng)。

六、廢氣排放:

    多余的HMDS蒸汽(廢氣)將由真空泵抽出,排放到廢氣收集管道,在無(wú)廢氣收集管道時(shí)需做專(zhuān)門(mén)處理。

選配件:

1、增加HMDS液體瓶

2、壓力記錄儀(帶曲線(xiàn))

3、溫度記錄儀(帶曲線(xiàn))


關(guān)鍵詞:真空泵 溫度記錄儀

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