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光學53X-M顯微圖像分析系統

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更新時間：2024-03-24 22:33:51瀏覽次數：107次

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產品簡介

顯微圖像分析系統53X-M 其他同類產品正置式的金相顯微鏡，用落射(同軸反射)照明方式，鑒別和分析各種金屬和合金材料及非金屬物質的組織結構，及對集成電路和微顆粒、線材、纖維、表面噴涂等一些表面現象進行研究分析工作

詳細介紹

顯微圖像分析系統53X-M

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正置式的金相顯微鏡，用落射(同軸反射)照明方式，鑒別和分析各種金屬和合金材料及非金屬物質的組織結構，及對集成電路和微顆粒、線材、纖維、表面噴涂等一些表面現象進行研究分析工作。
立柱式的結構設計，可隨意設定鏡筒的水平及垂直位置，適合各種不同類型的試樣。
儀器標準配置的顯微圖像分析系統，可對所觀測的任何物體進行分析,測量,計算等科研實驗工作。
系統還可以選配其他計算機操作系統軟件，如下：
1.金相圖像分析系統；2.顯微圖像測量系統。

正置式的金相顯微鏡，用落射(同軸反射)照明方式，鑒別和分析各種金屬和合金材料及非金屬物質的組織結構，及對集成電路和微顆粒、線材、纖維、表面噴涂等一些表面現象進行研究分析工作。

1.結構：正置式三目鏡筒傾角45° 瞳距和屈光度可調 4物鏡轉換器
2.總放大倍率：顯微鏡40×- 500× (圖像50 - 4000×)
3.測微目鏡測微尺：分劃目鏡10× 測微尺0.01/1 mm
4.移動平臺：移動范圍X-Y：75 × 50 格值0.1 mm
5.鏡筒升降范圍： 90 mm (可作360°旋轉及定位)
6.調焦機構：同軸粗微動格值0.002 mm
7.落射照明系統：帶可變光闌及濾色片可調光鹵素燈20W / 6V 偏光裝置 (起偏和檢偏鏡組插片)

關鍵詞：金相顯微鏡顯微鏡照明系統