| 一、儀器的用途 透反射熱臺偏光顯微鏡是地質、礦產、冶金、石油化工、化學纖維、半導體工業以及藥品檢驗等部門和相關高等院校的高分子等專業zui常用的專業實驗儀器。與光學或電子顯微鏡配合使用，在微觀上觀察其溶化、升華、結晶過程中的狀態和各種變化。
專為材料學、生物化學、冶金學、有機化學、高分子材料學而研制。觀察高聚物熔融和結晶過程中的形態,結晶速率及動力學計算；觀察雙折射體的光學效應；微生物形貌觀察；組織細胞核、壁形態觀察；地質材料偏光形態觀察；無機晶體材料觀察,特別對含有結晶體的材料進行熱性能變化的研究更為重要。 |
二、技術參數
1．目鏡
| 類別 | 放大倍數 | 視場（mm） |
| 大視野目鏡 | 10X | φ18 |
| 分劃目鏡 | 10X | φ18 |
2．物鏡
| 類別 | 放大倍數 | 數值孔徑（NA） | 蓋玻片厚 |
| 無應力平場
消色差物鏡 | 5X | 0.12 | - |
| 10X | 0.25 | - |
| 40X | 0.65 | - |
| 60X | 0.85 | - |
3.光學放大倍數：50X--600X 系統放大：50X-2200X
4.目鏡管：轉軸式（傾斜30°），內置檢偏器,可自由切換正常觀察與偏光觀察,推入式
勃氏鏡,中心可調,λ補償器,λ/4 補償器,石英鍥補償器
5.透射照明：6V 20W鹵素燈,亮度可調,起偏器可360°旋轉有0、90、180、270四個讀數
反射照明: 6V 20W鹵素燈,亮度可調, 起偏器可旋轉；
6.載物臺：機械式附加旋轉臺面 尺寸 φ100mm， 360°旋轉
7.調焦機構：粗微動同軸，齒輪轉動 , 帶限位及調節松緊機構
8.聚光鏡：阿貝聚光鏡NA1.25，升降上下可調
9.防霉系統:*防霉
10.成像系統:配置日本JVC高像素CCD,像素達47萬；
11.高精熔點測定儀（具體參數見熔點儀資料）
①精密溫度控制儀顯示窗口由上下二排四組數子及文字（英文）組成。
上排：溫度測量顯示組，下排 ：溫度設定顯示組. 數顯方式:整數顯示
②恒溫范圍：室溫---400℃, 恒溫精度：全范圍≤±0.5℅, 恒溫系統波動度：±1℃
如作熔點測量,則只能間接測量;必須通過標準物質熔點校正得到修正值后,再進行測量.
此儀器只能測量相對溫度,不能測量溫度; 儀器顯示溫度不等于物質的實際溫度.
③溫度速度：可設置升溫速度范圍（可調）：0.5---36秒/℃
zui大升溫速度：室溫---100℃≤40秒
zui慢升溫速度達36秒/℃,達400℃時間：240分鐘
即刻恒溫響應時間：≤0.01秒
④熱臺尺寸: 厚度:12mm; 大小:Φ110mm; 高溫區: Φ30mm, 通光孔: Φ4mm
⑤熱臺的外體與高溫度采用三根陶瓷分開隔熱;在中心溫度400℃,室溫25℃時,熱臺外
體溫度≤70℃,熱臺zui大載物重量：200克
⑥熱臺傳感器:高精度的雙傳感器,連接熱臺與溫控儀
三、系統組成
電腦型 （XPR-400C）：1.顯微鏡 2.適配鏡 3.攝像器 4.A/D（圖像采集） 5.N型熱臺
數碼型 （XPR-400D）：1.顯微鏡 2.適配鏡 3.數碼相機 4.N型熱臺
四、總放大參考倍數
XPR-400C型：50--3400倍 XPR-400D型：50--2000倍
五、選購件
1．目鏡：16X（Φ11mm） 2．物鏡：20X 50X 80X 100X
3．移動尺（30X25mm） 4．圖像測量軟件
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:sales
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偏光顯微鏡
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/Products/xcxwj/index.htm 相差顯微鏡
產品包括：測量顯微鏡、生物顯微鏡、體視顯微鏡、金相顯微鏡、視頻顯微鏡、檢測顯微鏡、偏光顯微鏡，偏光熔點測定儀、生物顯微鏡加熱臺、干涉顯微鏡、測量投影儀，金相分析儀、光學投影儀、工業投影儀、影像測量儀、顯微成像系統
優點
光學系統：UCIS無限遠色差獨立校正光學系統。
1. *機身：一體化設計，整體壓鑄，機身更加穩定牢固。
2. 放大倍率：40～l000X。
3. *目鏡：具有防霉功能，平場10X高眼點目鏡，視場22mm，高眼點觀察，瞳孔距離21mm，屈光度可調。
4. *物鏡：無限遠平場消色差物鏡（具有防霉功能），4X/0.10；10X/0.25；40X/0.65（帶彈簧和緩沖裝置）；100X/1.25 （油、帶彈簧和緩沖裝置）。
5. 絞鏈式三目：無限遠，觀察角度30°，雙瞳距離48mm～75 mm，視度可調。
6. *物鏡轉換器：內傾內定位五孔轉換結構。
