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FHC-00高頻感應(yīng)熔樣機(jī)

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更新時間：2022-09-25 13:15:29瀏覽次數(shù)：165次

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瑞紳葆分析技術(shù)（上海）有限公司

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產(chǎn)品簡介

詳細(xì)介紹

FHC-00型高頻熔樣機(jī)是瑞紳葆分析技術(shù)（上海）有限公司精心研制的一款針對XRF分析用玻璃熔片法制樣的設(shè)備，還可用于制備溶液用于AAS和ICP等分析。玻璃熔融法制備XRF的測試用玻璃熔片是這樣過程：試樣在助熔劑（如硼酸鋰鹽）的協(xié)助下，用鉑黃坩堝（一般鉑金/黃金質(zhì)量比例為95/5）做導(dǎo)熱容器，通過高溫加熱熔融（熔樣溫度一般在1050℃-1300℃間），最后直接冷卻鍋底成型或鑄模冷卻成型制成玻璃熔片。玻璃熔片法作為XRF測試的制備樣品重要方法之一，有效減少甚至消除了樣品在XRF分析時的顆粒效應(yīng)、基體效應(yīng)、礦物效應(yīng)等不良因素，提高了XRF的精確度，在鋼鐵、冶金、化工、地質(zhì)、水泥等行業(yè)有廣泛應(yīng)用。本自動高頻熔樣機(jī)是為快速高效制備XRF分析用玻璃熔片而設(shè)計，整機(jī)結(jié)構(gòu)合理，采用高頻感應(yīng)加熱技術(shù)，有的加熱速度，同時配備有高精度紅外測溫系統(tǒng)實(shí)時測溫并結(jié)合PID控溫技術(shù)確保熔樣過程的溫度準(zhǔn)確性和重現(xiàn)性，的保障玻璃熔片的質(zhì)量，采用直觀全觸摸屏設(shè)計，人機(jī)界面友好，操作簡單，PLC智能控制組成整機(jī)控制中樞，使得熔樣機(jī)具有的自動化程度，穩(wěn)定和靈活操作特性。高頻快速加熱結(jié)合完整的溫度控制、運(yùn)動搖勻、安全機(jī)制等設(shè)計使得本設(shè)備在玻璃熔片制樣上表現(xiàn)出高效穩(wěn)定特性，各項(xiàng)指標(biāo)性能表現(xiàn)*，擁有很高的性價比，適用性強(qiáng)，可以滿足不同客戶對不同樣品的快速玻璃熔片制樣需求。

優(yōu)點(diǎn)

? 靈活，多功能性：XRF分析用玻璃熔片，AAS和ICP分析用溶液。

? 采用高頻感應(yīng)加熱系統(tǒng)，快速升溫，過程可靠穩(wěn)定高效。

? 有單堝單模，雙堝雙模，四堝四模等三種可選，制樣速度為：5-10min/批。

? 采用集操作和顯示于一體的觸摸屏人機(jī)界面，操作簡單、安全可靠。

? 采用高精度紅外測溫系統(tǒng)，結(jié)合PID智能溫度控制，保證熔樣過程的控溫制樣準(zhǔn)確性。

? PLC智能控制系統(tǒng)，可預(yù)存儲5套常用制樣程序。

? 具熔融過程自動擺動功能，保障熔樣均勻性。

? 自動完成整個熔化和澆鑄成型。用戶只需按自己要求上樣，按預(yù)氧化→加熱熔化→擺動搖勻→澆鑄成型→冷卻，設(shè)定好熔樣程序，一鍵啟動，即可自動執(zhí)行完成快速高質(zhì)量制樣。

? 對鉑金坩堝和成型模具設(shè)計有耐熱陶瓷保護(hù)架，保障其正常使用壽命。

? 熔化室內(nèi)設(shè)計有專門抽風(fēng)系統(tǒng)，可及時排走熔化過程中產(chǎn)生的有害氣體，保障用戶健康使用。

? 有過壓、過流、過熱、缺水、超溫等多重安全防護(hù)，保障安全穩(wěn)定使用。

? 對不同樣品有廣泛適用性，制得的熔片均勻可靠，性價比高，可滿足用戶XRF分析時對玻璃熔片的高要求。

技術(shù)參數(shù)

型號	FHC-00
溫度范圍	室溫-1300℃
加熱方式	高頻感應(yīng)加熱
控溫方式	紅外非接觸實(shí)時測溫，PID反控高頻加熱
額定功率	單堝：8kw，空開要求：32A 雙堝：16kw, 空開要求：60A 四堝：32kw, 空開要求：125A
電源	單相AC220V±10%、50/60Hz，保護(hù)接地
振蕩頻率	50-100kHz
坩堝架搖擺角度	±45°
坩堝架搖擺頻率	30-99次/分鐘(用戶可調(diào)）
倒樣角度	60-122°（用戶可調(diào)）
成型方式	自動倒模澆鑄成型
控制系統(tǒng)	集操作顯示控制一體彩色液晶觸摸屏、PLC控制
預(yù)存儲程序數(shù)	5條（用戶可設(shè)置常用熔樣程序）
熔樣曲線工作模式及各階段時間	預(yù)熱-氧化-熔融-搖擺-自動澆鑄成型-冷卻，各階段時間可調(diào)
感應(yīng)圈水溫	≤60℃
冷卻系統(tǒng)	加熱線圈需水冷卻（外置冷水機(jī)），供水要求大于3L/min, 水壓≤0.2MPa；熔片冷卻采用風(fēng)扇強(qiáng)制風(fēng)冷
熔樣工作方式	預(yù)氧化→熔融+擺動→自動澆鑄成型→冷卻
熔樣位	雙堝雙模（用戶可選單堝單模，或四堝四模）
熔樣速度	5-10min/批（根據(jù)樣品的復(fù)雜程度而定）
設(shè)備安全保護(hù)	過壓、過流、過熱、缺水、超溫
坩堝要求	鉑黃坩堝（Pt/Au: 95/5）
儀器重量	50kg（雙鍋雙模）/25kg（單堝單模）/100kg（四堝四模）
主機(jī)尺寸（L×W×H mm）	雙堝雙模型主機(jī)：580×828×425（不包括外置水冷機(jī)）單堝單模型主機(jī)：580×414×425（不包括外置水冷機(jī)）四堝四模型主機(jī)：580×1656×425（不包括外置水冷機(jī)）