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杭州得聚儀器設備有限公司
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可對ECL發光等直接曝光成像，并獲得實驗結果。以往實驗室主要使用暗室曝光壓片進行ECL檢測，但建造暗室成本高而且浪費實驗室空間，曝光步驟繁瑣，沖洗X膠片時還會接觸到有毒的化學試劑。化學發光成像系統的使用已經逐漸取代傳統的暗室壓片曝光檢測。
產品介紹：
可對ECL發光等直接曝光成像，并獲得實驗結果。以往實驗室主要使用暗室曝光壓片進行ECL檢測，但建造暗室成本高而且浪費實驗室空間，曝光步驟繁瑣，沖洗X膠片時還會接觸到有毒的化學試劑。化學發光成像系統的使用已經逐漸取代傳統的暗室壓片曝光檢測。
性能特點：
?可通過 F/0.80, 高清晰大口徑高通透定焦鏡與高靈敏度數碼制冷CCD的*結合，使實驗者擺脫煩瑣的傳統暗室X膠片曝光方式，方便快速高效地獲得化學發光的實驗結果。
?可通過電腦進行化學發光圖像的實時觀測；
?可通過一次拍攝無需任何操作即可將marker圖像與化學發光圖像自動疊加并且自動生成三種不同效果的化學發光圖像；
?可通過一鍵拍攝，無需揣摩曝光時間，一鍵完成western blot結果成像
?可設定連續采樣的次數、并可終止曝光時間，進行動態連續拍攝方便獲得好條件和效果的實驗結果；
應用范圍：
化學發光檢測Western Lightning、 ECL、ECL plus、CDP Star、SuperSignal、CSPD、 LumiGlo等發光底物
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