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多源真空鍍膜機

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更新時間:2023-01-09 13:43:00瀏覽次數:838次

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產品簡介

設備主要以金屬源,有機源蒸發為主體,適用于實驗室制備金屬單質、氧化物、介電質、半導體膜、掃描電鏡制樣等,也可用作教學及生產線前期工藝試驗等,整套設備操作簡便,綜合功能多,擴展空間大,適合及滿足大專院校的教學與科研工作

詳細介紹

設備主要以金屬源,有機源蒸發為主體,適用于實驗室制備金屬單質、氧化物、介電質、半導體膜、掃描電鏡制樣等,也可用作教學及生產線前期工藝試驗等,整套設備操作簡便,綜合功能多,擴展空間大,適合及滿足大專院校的教學與科研工作。


 蒸鍍系統由蒸鍍真空室腔體,金屬源鍍膜系統,有機源鍍膜系統,樣品臺系統,真空泵機組,膜厚檢測系統,設備機架和電控系統組成,真空室前門與手套箱對接,該設備采用了一體化的設計方案,使整套設備結構緊湊、布局簡潔避免了實驗設備外觀凌亂的現象。

各部分的技術指標如下:

1、蒸鍍真空室腔體

a)       蒸鍍真空室腔體均為USU304優質不銹鋼D形前后開門結構,真空室內部尺寸D350*450mm(暫定),焊接前各個不銹鋼部件需進行物理,化學式表面拋光,焊接后采用電解式拋光,真空室表面潔凈美觀,真空腔體前后門均配有DN100視窗,可對真空腔體內部進行實時監控,并配有擋板以及防護玻璃,預防觀察窗污染;

b)       真空腔體底部安裝2套金屬源組件(含氣動擋板),5套有機源組件(含氣動擋板),1200L/S渦輪分子泵真空泵機組,2套烘烤照明系統以及3套水冷膜厚探頭等;

c)       頂部安裝多功能樣品臺一套,電動樣品托擋板,KF16氣動角閥(接通手套箱與真空室,通氣作用)以及其他輔助法蘭;

d)       左側安裝CF35氣動預抽角閥,KF16氣動放氣閥以及預留若干CF35法蘭;

e)       右側預留若干CF35法蘭;

f)        蒸鍍設備后側配有鉸鏈式方門,方便清洗真空腔體,真空室內部調試,維修以及取放物品。

2、蒸鍍真空腔蒸發源:2套金屬蒸發源,5套有機蒸發源

a)       2套金屬蒸發源:配一臺1000W可控硅調壓電源,數字表顯示蒸發電源,電流調整精度0.1A(微調),通過2根銅電極連接,兩端可夾鎢、鉬和鉭舟,每個金屬蒸發源配有氣動擋板,以便隨時遮擋蒸發源;

b)       5套有機蒸發源:在源內放置4CC石英舟,配日本導電牌SR93溫控表,精度±1℃,可以實現溫度或電流補償實現蒸鍍速率穩定的功能,即能實現手動控制電流,配三臺溫控電源,有機源溫度為室溫—500度,每個有機蒸發源配有氣動擋板,以便隨時遮擋蒸發源;

c)       金屬采用陶瓷罩密封四周以及隔板分隔,有機源采用隔板分隔,避免交叉污染。

3、蒸鍍雙真空腔樣品臺系統:

a)       蒸鍍真空腔體樣品臺具有可升降,可旋轉,可水冷(配有熱電偶)功能;

b)       樣片托架,可安裝15*15mm樣片25片,附著掩膜板;

c)       樣片與蒸發源之間的間距為200-320mm,樣片轉速030轉/分連續可調;

d)       樣品臺安裝電動樣品擋板;

4、真空泵機組:

a)       通過CF200高真空氣動插板閥將真空腔體和1200L/S渦輪分子泵對接,再通過KF40高真空電磁截止閥將分子泵與9L/S機械泵對接;

b)       真空腔體和9L/S機械泵之間需要通過CF35高真空氣動角閥連接,KF40高真空電磁截止閥和CF35高真空氣動角閥和9L/S機械泵之間都需軟管之間連接。

5、膜厚檢測系統:

a)       采用SQC310C四通道英??的ず駜x,膜厚儀擁有監測膜厚速率以及累計膜厚的功能;

b)       其中2個探頭用于監測一套金屬蒸發源和一套有機蒸發源,1個探頭用于監測三套有機蒸發源;

6、設備機架:

設備支撐采用碳鋼40方管焊接而成獨立機架,表面噴塑,承重主體設備相關系統,并且可以由萬向輪移動調整為主,通過地腳定位。

7、電控系統系統:

電氣控制部分采用機架內置;

a)       3臺有機源控制電源;

b)       1臺金屬源控制電源;

c)       蒸發源擋板控制電源;

d)       SQC310C四通道英??的ず駜x一臺,可實現膜厚監測;

e)       渦輪分子泵電源一臺、機械泵控制電源一臺以及真空測量計(一低一高)一臺;

f)        樣品臺以及其擋板控制電源一臺;

g)       真空腔體內烘烤系統控制電源一臺;

h)       PLC控制器(10寸彩色觸摸屏等);

i)        總控制電源以及其它輔助控制器。

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