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TX2000全反射X熒光光譜儀

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更新時間：2023-06-20 18:31:12瀏覽次數：263次

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產品簡介

TXRF（全反射X熒光）分析原理是基于X熒光能譜法，但與X射線能譜形成對比的是，傳統能譜采用原級X光束以45角轟擊樣品，而TXRF采用毫弧度的臨界角（接近于零度角）入射。由于采用此種近于切線方向的入射角，原級X光束幾乎可以全部被反射，照射在樣品表面后，可以很大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發生，同時減小了載體的背景和噪聲，亦可減少樣品使用量。

詳細介紹

全反射X熒光光譜儀應用范圍

TXRF(全反射X熒光)分析原理是基于X熒光能譜法，但與X射線能譜形成對比的是，傳統能譜采用原級X光束以45°角轟擊樣品，而TXRF采用毫弧度的臨界角(接近于零度角)入射。由于采用此種近于切線方向的入射角，原級X光束幾乎可以全部被反射，照射在樣品表面后，可以很大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發生，同時減小了載體的背景和噪聲，亦可減少樣品使用量。

TX2000 將全反射和傳統的能量色散集成在同一臺儀器上，創新光學編碼器的步進電機，角度測量，軟件控制Mo/W靶可自由切換，采用高分辨、低背景的帕爾貼控溫硅漂移檢測器。

應用范圍

TX2000 可檢測從鈉Na到钚Pu所有元素含量，可進行痕量或超痕量元素分析（ppt或pg），廣泛的應用在環境分析（水、灰塵、沉積物、大氣懸浮物），制藥分析（生物體液和組織樣品中的有害元素），法醫學（微小證據分析），化學純度分析（酸、堿、鹽、溶劑、水、超純試劑），油品分析（原油、輕質油、燃料油），染料分析（墨水、油漆、粉末），半導體材料分析（揮發相分解），核材料工業（放射性元素分析）。

主要特點
■ 單內標校正，有效簡化了定量分析，無基體影響；
■ 對于任何基體的樣品可單獨進行校準和定量分析；
■ 多元素實時分析，可進行痕量和超痕量分析；
■ 不受樣品的類型和不同應用需求影響；
■ 的液體或固體樣品的微量分析，分析所需樣品量小；
■ 優良的檢出限水平，元素分析范圍從鈉覆蓋到钚；
■ 的動態線性范圍；
■ 無需任何化學前處理，無記憶效應；
■ 非破壞性分析，運行成本低廉。

關鍵詞：熒光光譜儀步進電機