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武漢鑫卓雅科技發展有限公司


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材料物理&材料制備系列DH-500JJC型 多靶磁控濺射鍍膜機

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更新時間:2023-07-22 17:59:04瀏覽次數:167次

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產品簡介

該鍍膜機主要用于科研實驗,可制備納米級和微米級的單層及多層功能膜-各種硬質膜、光學膜、金屬膜、鐵磁薄膜、半導體膜、介質膜和氧化物薄膜等多種薄膜

詳細介紹

該鍍膜機主要用于科研實驗,可制備納米級和微米級的單層及多層功能膜-各種硬質膜、光學膜、金屬膜、鐵磁薄膜、半導體膜、介質膜和氧化物薄膜等多種薄膜。

  該鍍膜機為前開門式設計,功能強、鍍膜質量穩定、重復性好、操作簡便。真空室材料均采用優良材質SUS304 不銹鋼材料制造,工藝規范、精致,保證了材料的成膜純度。

    采用分子泵+直聯機械泵機組,具有抽速快、無油、操作方便快捷、易于維護的特點。

◆ 鍍膜方式:可實現多靶共濺模式;

◆ 磁控靶:圓柱/平面靶;

◆ 進氣系統:三路質量流量計;

◆ 鍍膜室體積:500mmX500mmX600mm

◆ 極限真空度:5X10-5 Pa,恢復真空:從大氣抽至6.7X10-4 Pa 40分鐘);

◆ 真空抽氣系統:機械泵與分子泵組成;

◆ 真空測量系統:數顯復合真空計;

◆ 工作電源:直流電源500W;射頻電源500W13.56MHz);加熱控溫電源;

◆ 工件烘烤溫度:室溫~800℃可控可調(PID控溫);

◆ 選配件:石英晶振測厚儀、冷卻水機組等;

◆ 供電電源:三相AC380V,50Hz。

◆特殊規格可定制。

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