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上海華旋光電科技有限公司
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MPD-2W金相試樣磨拋機是我廠新研發的一款設備，機身采用ABS整體注塑，具有耐沖擊、耐腐蝕等特點，相比金屬外殼，其外形也更加流暢，美觀。密封式進出水結構；流水與線路板隔開。超大超深磨樣室，有效阻擋冷卻水及磨拋液外濺，研磨拋光較大工件時操作更加方便。
產品特點
該設備適用于金屬、陶瓷、巖石、電子器件等各類樣件的精密研磨拋光，本機集粗磨、精磨、拋光等功能與一體，更換砂紙方便快捷，具備多種磨拋盤選擇，滿足各類實驗的研磨拋光要求。
二、產品特點：
1、采用整體注塑外殼設計
2、密封式進排水系統
3、多種磨拋盤選擇(200mm、230mm 、250mm、 300mm)
4、雙盤雙工位系統
5、定速和無極調速
6、轉速方式:正反轉任意調節
7、360度任意旋轉水龍頭
三、技術規格：
1、機體形式：臺式雙盤
2、控制方式：雙盤單控
3、磨盤轉速本機具備(定速+無極變速)功能
定速(500和1000或600和1200也可根據客戶要求出廠設定速度)+變速(100-1500轉/分鐘速度可調)
4、轉速方式:正反轉任意調節
5、主機功率：550W
6、磨盤直徑：φ230mm （可選配φ200、φ250、φ300mm等規格）
7、外形尺寸：φ200、φ230規格680X570X320mm,(φ250、φ300mm規格尺寸850x750x450mm)
8、電源 ：220V
四、常用耗材：
1、金相砂紙：240、600、1000、1500#(其他規格400、2000#等）適用于常規金屬類樣件的研磨。
2、金剛石磨盤：240、600、1000、1500#(其他規格400、2000#等）適用于超硬材料樣件的研磨。
3、金剛石砂紙：粒度：45-0.3um(適合超硬材料的精密研磨及粗拋，如陶瓷、晶體等材料）。
4、拋光布料：呢料、絲絨、羊毛等（對特殊材料也需要采用粗拋、精拋等多道拋光工藝）。
5、金剛石拋光劑：粒度：40-0.5um（比較廣泛的拋光輔料，適合各類材料的拋光）。
6、金剛石懸浮液：粒度：40-0.5um（比較廣泛的拋光輔料，更適合自動磨拋機使用）。
7、氧化鋁拋光粉：粒度：30-0.5um （適合碳鋼類樣件的拋光）。
8、磁性磨盤：更便于更換砂紙及拋光布料。
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