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賽默飛ICS-6000離子色譜系統(tǒng)

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賽默飛ICS-6000離子色譜系統(tǒng)

ICP光譜儀發(fā)射光譜儀電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀重金屬分析

賽默飛iCAP™ RQ ICP-MS

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可以在高達(dá) 5000 psi 壓力下操作的模塊式離子色譜 (IC)系統(tǒng)，達(dá)到分離度和通量增加的效果。當(dāng)配置為 Reagent-Free™ IC (RFIC™) 系統(tǒng)時(shí)，Thermo Scientific™ Dionex™ ICS-6000 標(biāo)準(zhǔn)孔和微孔系統(tǒng)可以在高達(dá) 5000 psi 壓力下持續(xù)運(yùn)行。利用小粒徑 (4 µm) 色譜柱提高分離度，采用較高流速和 150 mm 色譜柱在不降低所需分離度的情況下加快運(yùn)行速度，或采用標(biāo)準(zhǔn)流速和 250 mm 色譜柱提高分離度。能夠?qū)υ撿`活的模塊化系統(tǒng)進(jìn)行配置，使其適合廣泛的各種應(yīng)用。