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可以在高達 5000 psi 壓力下操作的模塊式離子色譜 (IC)系統,達到分離度和通量增加的效果。當配置為 Reagent-Free™ IC (RFIC™) 系統時,Thermo Scientific™ Dionex™ ICS-6000 標準孔和微孔系統可以在高達 5000 psi 壓力下持續運行。利用小粒徑 (4 µm) 色譜柱提高分離度,采用較高流速和 150 mm 色譜柱在不降低所需分離度......
可以在高達 5000 psi 壓力下操作的模塊式離子色譜 (IC)系統,達到分離度和通量增加的效果。當配置為 Reagent-Free™ IC (RFIC™) 系統時,Thermo Scientific™ Dionex™ ICS-6000 標準孔和微孔系統可以在高達 5000 psi 壓力下持續運行。利用小粒徑 (4 µm) 色譜柱提高分離度,采用較高流速和 150 mm 色譜柱在不降低所需分離度的情況下加快運行速度,或采用標準流速和 250 mm 色譜柱提高分離度。能夠對該靈活的模塊化系統進行配置,使其適合廣泛的各種應用。
可以在高達 5000 psi 壓力下操作的模塊式離子色譜 (IC)系統,達到分離度和通量增加的效果。當配置為 Reagent-Free™ IC (RFIC™) 系統時,Thermo Scientific™ Dionex™ ICS-6000 標準孔和微孔系統可以在高達 5000 psi 壓力下持續運行。利用小粒徑 (4 µm) 色譜柱提高分離度,采用較高流速和 150 mm 色譜柱在不降低所需分離度的情況下加快運行速度,或采用標準流速和 250 mm 色譜柱提高分離度。能夠對該靈活的模塊化系統進行配置,使其適合廣泛的各種應用。
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