污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
北京商德通科技有限公司
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更新時間：2023-04-17 15:18:39瀏覽次數(shù)：197次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線應(yīng)用：﹡評價表面處理程度﹡考察粘膠特性﹡固體表面能譜分析，預(yù)測親疏水性﹡紡織行業(yè)印染的選擇﹡晶片及微電子產(chǎn)品的質(zhì)量控制技術(shù)參數(shù)：﹡樣品體積(LxWxH)：300x∞x150mm﹡接觸角測量范圍：0to180°C，分辨率：+/-0.01°﹡表面張力測量范圍：0.01to2000mN/m
應(yīng)用：
﹡ 評價表面處理程度
﹡ 考察粘膠特性
﹡ 固體表面能譜分析，預(yù)測親疏水性
﹡ 紡織行業(yè)印染的選擇
﹡ 晶片及微電子產(chǎn)品的質(zhì)量控制
技術(shù)參數(shù)：
﹡ 樣品體積(LxWxH)：300 x ∞ x 150 mm
﹡ 接觸角測量范圍：0 to 180 °C，分辨率：+/- 0.01 °
﹡ 表面張力測量范圍：0.01 to 2000 mN/m；分辨率：0.01mN/m
﹡ 光學(xué)系統(tǒng)：7倍放大；視野范圍FOV 3.2 to 22.5 mm
位移系統(tǒng)：軟件控制全xyz三軸移動，速度、行程可調(diào)，可實現(xiàn)多點連續(xù)自動測量
滴定系統(tǒng)：最多9種樣品全自動滴定，自動補液、自動遞液
﹡ 攝像系統(tǒng)：311楨/秒 (另有1000楨/秒可選，可定制10000fps或更高速度或高分辨率相機)；軟件自動觸發(fā)計算和攝像
﹡ 軟件：6種不同的方法分析座滴形態(tài)，自動基線調(diào)整，可選
擇曲面基線。垂滴方法計算液體的表面/界面張力，錄像，程序設(shè)定，自動進(jìn)樣設(shè)定，通過
Fowkes,extended Fowkes, Wu, Zismann, Owens-Wendt-Rabel, van Oss & Good, Neumann等
方法計算固體的表面自由能，濕潤性等…
﹡ 溫度范圍：-60 to 400 °C
﹡ 儀器尺寸 (LxWxH)：380 x 620 x 610 mm (380 x 954 x 610)*
﹡ 重量：25 to 45 kg
﹡ 電壓：110 to 240 VAC
測量方法：
﹡座滴法；前進(jìn)角法；后退角法；斜板法；懸滴法；振蕩滴法；單纖維測量方法等
選件：
﹡ 可選配多種手動滴定系統(tǒng)，用于十分困難測量樣品 ，比如高粘度、難清洗的樣品
﹡ 高溫滴定控制模塊，用于滴定測量熔融高聚物和焊錫等材料的接觸角和表面張力，溫度范圍高達(dá)400℃
l 振蕩滴測量模塊：用于液體界面粘彈性測量，采用小液滴高頻振蕩法，測量表面活性劑表面馳豫、損耗和存儲模量和表面粘度，研究乳液和泡沫的穩(wěn)定性。
﹡ 單纖維滴定控制模塊，可以實現(xiàn)在幾個微米直徑纖維接觸角的測量
﹡ 的濕度控制腔體，可以實現(xiàn)恒濕控制，濕度范圍5-95%
﹡ PC軟件控制的多滴定系統(tǒng)，最多可達(dá)8個自動進(jìn)樣系統(tǒng)
﹡ 帕爾貼電動控制升降溫模塊，控溫范圍 -30-160℃，升降溫速度超快
﹡ 電動硅片樣品控制臺，可以自動選擇測量8寸、12寸等硅片的接觸角
﹡ TC21 - 大的溫度控制工作臺
主要特點：
﹡ 的液滴觀測角的調(diào)正技術(shù)，隨時可以觀測液滴的形態(tài)。
﹡ 進(jìn)樣系統(tǒng)的微調(diào)功能可以僅僅調(diào)整進(jìn)樣器的位置。
﹡ 智能化的進(jìn)樣系統(tǒng)，樣品更換更加簡單，避免了樣品間相互交叉污染的危險。
﹡ 新型的照明系統(tǒng)消除所有雜散光的干擾。
﹡ 創(chuàng)新的軟件設(shè)計支持用戶在任何時間都可以運行事先設(shè)定好的程序或模塊。
﹡ 個性化的樣品臺，隨意調(diào)整，不同的加熱/制冷工作臺，可以滿足不同條件的特殊樣品的要求。
﹡ 新型的 Peltier 溫控室， 自動溫度調(diào)節(jié)快速，精確。
﹡ 照明系統(tǒng)，提供強的光能量，極低的熱輻射。
﹡ 模塊設(shè)計, 可以全手動或全自動調(diào)節(jié)固體樣品的位置
﹡ 手動或自動測量多達(dá)8個樣品
應(yīng)用：
﹡ 評價表面處理程度
﹡ 考察粘膠特性
﹡ 固體表面能譜分析，預(yù)測親疏水性
﹡ 紡織行業(yè)印染的選擇
﹡ 晶片及微電子產(chǎn)品的質(zhì)量控制
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