Turbo-V 2K-G 不僅僅是一臺泵。它是專門為等離子濺射工藝精心設計的專用分子泵系統。其葉片級數和泵的整體結構均經過優化，可以工作在高氬氣氛圍下和溫度的環境中。此外，它還擁有內置的控制器件、一體化的放空和充氮氣保護閥以及免維護的軸承。所有這些特點使 Agilent Turbo-V 2K-G 成為鍍膜工業出色的解決方案。

特性：

1、為薄膜沉積應用而專門設計的分子泵解決方案

2、現有的高性能、緊湊的儀器

3、采用集成的方法很大程度提高系統效率和正常運行時間的渦輪分子泵

4、將渦輪分子泵、驅動器件、電源、MoniTorr、吹掃氣裝置和通信裝置集于一身

5、通用電子器件接口并配有操作簡單的控制軟件模擬 I/O 信號以及 RS232/RS485 接口等標準配置

6、安捷倫 Profibus 接口（可選）

7、采用了安捷倫 A-PLUS 軟件（原 T-plus）

渦輪分子泵應用范例：

安捷倫渦輪分子泵包括集成泵組和多流路泵，其設計旨在實際應用中達到更高性能。泵的緊湊型設計滿足工業中的嚴苛空間要求。渦旋分子泵幾乎不需要維護，并可避免錯誤使用。無論您是終端用戶還是原始設備制造商，安捷倫均可針對您的應用為您提供幫助和支持，或定制適合您的需求的系統。

典型渦輪泵應用：

領域	詳細說明	應用
質譜和分析儀器	針對質譜系統優化的全系列泵和控制器具有多入口泵組的定制泵低成本、易于使用、高分析性能對于 GC/MS，提供用于相對低氣體載荷環境的 1 個真空室和用于分析無機樣品的中等真空接口對于 LC/MS，需要提供多室、高通量真空系統對于 ICP-MS，提供多種真空系統，包括用于氬氣等重載氣的泵和使用氦氣的碰撞池對于 TOF 系統，需要較小尺寸、高通量和高效的散熱設備	質譜 GC/MS LC/MS ICP-MS TOF
科研中的真空應用	非常清潔、可靠和高性價比的 HV 和 UHV 粗真空軸承未暴露于 UHV，降低了污染高速和高壓縮可以以任意角度安裝聯用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體	高能物理融合技術一般 UHV 研究同步光源粒子加速器
工業真空加工	為薄膜沉積應用而專門設計的集成分子泵解決方案適用于原始設備制造商和終端用戶的專業性能適用于具有預真空鎖或大型內聯連續系統的單室批量系統和多室系統的泵	薄膜沉積：玻璃涂層設備（建筑和汽車玻璃，平板顯示器）薄膜太陽能電池生產（光電）光學數據介質（CD、DVD、磁光光盤）磁性存儲介質表面處理光學涂層（眼科、精密光電）膜或箔上的輥式/卷繞涂覆設備加工：生產電視機和顯示器顯像管疏散燈（高速公路照明、投影機） X 射線管和電子設備一般工藝：真空爐/冶金
納米技術儀器	分析從有機化合物到半導體晶片等各類物質全系列的高真空和超高真空泵特別適用于要求嚴苛的 SEM、TEM 和表面分析系統低振動渦旋泵適用于敏感的顯微分析可快速、無油式排空大型樣品室內的氣體集成的泵控制器可靈活進行控制，幾乎不生成電磁噪音非常適合為半導體生產創造合適環境高轉速確保能夠以高泵速抽空半導體生產中釋放的輕質氣體（He、H）符合高速循環應用的嚴格要求，例如真空裝載鎖通過對多個渦旋泵聯用一個前級泵，可提高工具的可靠性聯用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體安裝于支架上的控制器或一體式控制器允許將電子設備放置于遠處	電子顯微鏡（SEM、TEM）聚焦離子束系統 (FIB) 表面分析半導體制造

技術規格：

抽速：	N₂：1600 L/s	??
壓縮比：	N₂：3 × 10⁵
*極限真空（使用推薦的前級泵）**	< 1 × 10^-8 mbar
入口法蘭	ISO 250F
前級管道法蘭	KF 40 NW
額定轉速	33000 rpm
啟動時間	< 7 分鐘
推薦的前級泵	> 40 m³/h
工作位置	任意位置
操作環境溫度	+5 °C 至 +40 ℃
電源輸入電壓輸入頻率	100–240 Vac 50-60 Hz
通訊接口	模擬 I/O RS232/RS485 Profibus	標準標準可選
尺寸	高度重量直徑	335 mm（13.18 英寸） 335 mm（13.18 英寸） 35 kg（77 磅）