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北京創誠致佳科技有限公司
德國蔡司Sigma 系列產品場發射掃描電子顯微鏡用于高品質成像與高級分析. 將高級的分析性能與場發射掃描技術相結合,利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選:用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節省大量的時間:設置成像與分析步驟,提高效率。
Sigma 系列產品場發射掃描電子顯微鏡
Sigma 系列產品用于高品質成像與高級分析的場發射掃描電子顯微鏡.
靈活的探測,4步工作流程,高級的分析性能
將高級的分析性能與場發射掃描技術相結合,利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選:用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節省大量的時間:設置成像與分析步驟,提高效率。
Sigma 300 性價比高。Sigma 500 裝配有的背散射幾何探測器,可快速方便地實現基礎分析。任何時間,任何樣品均可獲得精準可重復的分析結果。
產品特點
用于清晰成像的靈活探測
自動化加速工作流程
高級分析型顯微鏡
基于成熟的 Gemini 技術
用于清晰成像的靈活探測
Sigma 300 可提供
集成式 EDS 解決方案:在低能量分析應用中同時實現高清晰度成像
Sigma Element 是一種集成式 EDS 解決方案,擁有高可用性和低電壓靈敏度。僅需使用一臺計算機來控制 EDS 和 SEM,進而大大提升了該集成化解決方案的易用性。同時,借助專門為顯微鏡和 EDS 操作設計的用戶界面可實現并行控制。
• 集成化:通過集成化,結合高清晰成像與快速分析,從而獲得不錯結果
• 定制化:根據不同的用戶需求定制軟件
• 靈敏度:*的氮化硅窗口增強低能X射線的探測靈敏度
拉曼成像與掃描電鏡聯用系統:*集成化的拉曼成像
獲取樣品中化學結構的指紋信息:聚焦拉曼光譜成像可擴展您的蔡司Sigma 300 掃描電鏡性能。 分析獲得樣品分子結構和結晶信息。 通過拉曼成像與EDS數據可進行3D 分析并與SEM圖像關聯。*集成化的拉曼成像掃描電鏡聯用系統使你充分發揮SEM和拉曼系統的功能。
技術參數
型號 | Sigma 300 | Sigma 500 |
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電子源 Schottky 熱場發射器 | Schottky 熱場發射器 | ||
分辨率* 30 kV(STEM) | 1.0 nm | 0.8 nm |
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分辨率*為15 kV | 1.0 nm | 0.8 nm |
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分辨率* at 1 kV | 1.6 nm | 1.4 nm |
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分辨率* 30 kV(VP模式) | 2.0 nm | 1.5 nm |
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反向散射檢測器(BSD) HD BSD | HD BSD | ||
大掃描速度 50 ns /像素 | 50 ns /像素 |
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加速電壓 0.02 – 30 kV | 0.02 – 30 kV |
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放大倍率 10× – 1,000,000× | 10× – 1,000,000× |
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探針電流 3 pA - 20 nA(任選100 nA) | 3 pA - 20 nA(任選100 nA) |
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圖像幀庫 32 k×24 k像素 | 32 k×24 k像素 |
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端口 | 10 | 14 |
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EDS端口 | 2(1個專用端口) | 3(2個專用端口) |
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*工作距離; 在終安裝時,分辨率在1kV和15kV高真空系統驗收測試中得到證實 | |||
真空模式 | |||
高真空 | 有 |
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可變壓力 | 10 – 133 Pa |
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Stage 類型 | 5軸同心級 | 5軸偏心平臺 | 5軸同心級選件 |
Stage X行程 | 125 mm | 130 mm | 125 mm |
Stage Y行程 | 125 mm | 130 mm | 125 mm |
Stage Z行程 | 50 mm | 50 mm | 38 mm |
Stage T行程 | -10到+90度 | -4到+70度 | -10到+90度 |
Stage R行程 | 360° 連續 | 360°連續 | 360° 連續 |
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