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工業顯微鏡

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產品型號Eclipse LV系列

品       牌

廠商性質其他

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更新時間:2023-09-14 17:20:59瀏覽次數:138次

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聯系人:施經理

產品簡介

描述: ECLIPSE 顯微鏡機身采用模塊化制造,可滿足多領域的工業應用,其中包括半導體器件、封裝、FPD、電子器件、材料和精密模具制造等。ECLIPSE LV 系列經過不斷的發展完善并配備了新的光學系統和功能,可根據觀察方法和目的 選擇支架裝置和照明裝置以滿足多種觀察需求。

詳細介紹

簡介 :


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ECLIPSE 顯微鏡機身采用模塊化制造,可滿足多領域的工業應用,其中包括半導體器件、封裝、FPD、電子器件、材料和精密模具制造等。ECLIPSE LV 系列經過不斷的發展完善并配備了新的光學系統和功能,可根據觀察方法和目的 選擇支架裝置和照明裝置以滿足多種觀察需求。用戶可選擇使用電動和手動操控模式以及反射照明專用模式和反射/透射組合照明模式以滿足任何應用需求。

 

CFI60-2 經過改進的光學性能

以的高數值孔徑和長工作距離設計理念而著稱的尼康 CFI60 光學系統

經過進一步改進,具有** 的長工作距離、色差校正性能和更輕的重量。

 

輕松的操作與數碼相機集成

現可使用數碼控制裝置來檢測包括物鏡信息在內的顯微鏡信息,以及對顯微鏡進行電動操作,以更高效地進行觀察和圖像拍攝。

 

觀察方法

可支持多種觀察方法:明場、暗場、偏光、微分干涉、落射熒光和雙光束干涉測量觀察功能。此外,LV100DA和LV100DA-U還可提供透射型微分干涉、暗場、偏光和相襯觀察功能。

 

 

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關鍵詞:顯微鏡

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