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全自動化學吸附儀BSD-MC

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更新時間:2022-11-18 17:27:02瀏覽次數:311次

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產品簡介

產品介紹INTRODUCTION1.程序升溫脫附(TPD)2.程序升溫還原(TPR)3.程序升溫氧化(TPO)4.程序升溫表面反應(TPSR)5.程序升溫硫化(TPS)6.脈沖滴定7.BET比表面積報告內容1.吸附劑表面活性中心類型根據脫附峰的數量來判定活性中心的種類,一個峰即對應一種活性中心

詳細介紹

產品介紹INTRODUCTION

1.程序升溫脫附(TPD)

2.程序升溫還原(TPR)

3.程序升溫氧化(TPO)

4.程序升溫表面反應(TPSR)

5.程序升溫硫化(TPS)

6.脈沖滴定

7.BET 比表面積

報告內容

1.吸附劑表面活性中心類型

根據脫附峰的數量來判定活性中心的種類,一個峰即對應一種活性中心。

2.不同類型活性中心的數目

根據峰面積來計算每一種活性中心的數量。

3.活性中心與吸附質氣體結合強度

根據脫附峰Tm 的大小判定活性中心與吸附質氣體結合鍵能的強弱,Tm 越大鍵能越大。

4.吸附及脫附活化能

根據 Wigner-Polanyi 模型求得脫附活化能;同時根據其擴展公式可求得吸附及脫附動力學和熱力學的全部參數。

5.金屬分散度

金屬分散度是指催化劑表面金屬原子與催化劑總金屬原子數的比值,計算公式如下:

上式中 DM 為金屬分散度,Va 為標況下吸附的吸附質氣體的體積單位為 L, N0 為阿伏

伽德羅常數,W(g)為催化劑總質量,P 為催化劑中所有金屬的質量分數,M 為金屬的相對分子量,Sloop 為定量環產生的峰面積,Vloop 為定量環標況下的體積,Si 為每次脈沖滴定產生的峰面積。

6.活性金屬表面積

活性金屬原子面積總和與催化劑中所有金屬原子質量比

上式中 SM (m2/g)為活性金屬表面積,n 為吸附劑與吸附質氣體分子的系數,Va(L)為吸附質

氣體體積, N0 為阿伏伽德羅常數, S0 (nm2)為金屬橫截面積,W(g)為催化劑總質量,P 為催化劑中所有金屬的質量分數。

7.平均粒徑大小

d(Å)催化劑中活性金屬平均粒徑,Sm(m2/g)催化劑活性比表面積,ρ(g/cm3)催化劑金屬密度。

關鍵詞:吸附劑 催化劑
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