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VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀

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更新時間：2023-06-29 13:02:14瀏覽次數：209次

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產品簡介

VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀

詳細介紹

產品簡介：VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍，一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜，一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。

產品型號	VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀
主要特點	1、配置兩個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。 2、可制備多種薄膜，應用廣泛。 3、體積小，操作簡便。
技術參數	1、輸入電源：220V/50Hz 2、濺射靶數量：2 3、靶槍冷卻方式：水冷 4、極限真空度：7.4E-5pa 5、真空室規格：Φ300×330 mm 6、真空系統：VRD-16機械泵 FF-100/150渦輪分子泵 7、恢復真空：系統從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min（系統短時間暴露大氣） 8、充氣系統：2路質量流量計（１路氬氣100scc、２路氬氣200scc）特殊氣體可定制 9、濺射靶規格：Φ2"，厚度0.1-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同） 10、樣品臺：Φ140mm/可旋轉（1～20rpm）/可加熱（室溫～1000℃）
產品規格	主機尺寸：寬900mm×深650mm×高1100mm